二手 NOVELLUS Sabre Next 200 #9378024 待售
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ID: 9378024
晶圆大小: 6"
优质的: 2012
Copper electro-plating system, 8"
Proteus
QN
User interface: Side panel
(2) System controllers: MC3
Process type:
Low acid
Signal tower: (3) Colors
GEM
HOST Connection type: RS232
Chase computer
Bottom exhaust kit
Bottom drain kit
Input voltage: 208 VAC 50/60 Hz 100 Amps
Anneal module:
Cassette hander
(2) Loadports
Robot type: AccuTran 7
Robot firmware: 1.4 l
(5) Anneals
Anneal H2 gas concentration: 100%
Process module:
Wafer aligner: Dual sensor with Pneumatic
Robot type: BROOKS AUTOMATION AQR7
End effector: SST with vacuum (Dual EE)
Wafer handler:
Robot type: AquaTran 7
Robot firmware: 1.8 E
Cell configuration:
Cell 1, 2 & 3:
Clamshell type: Double pressure Non MCD
Clamshell cup type: PPS
Clamshell lift: IAI
Clamshell cylinder configuration: Pressure vacuum cylinder
Anode chamber: SAC
(2) TI Cables
SAC
SAC Pump
Rinse type: Standard
Chuck type: PPS
EBR size: 5 mm
CCR ACRPEM Configuration: PEM1
CCR ACRPEM Configuration: PEM2
CCR ACRPEM Configuration: PEM3
Chemical Monitor System (CMS)
Chemical Delivery System (CDS)
Water chiller type: NESLAB HX-75 or HX-300
2012 vintage.
NOVELLUS Sabre Next 200（SN200）反应堆是为半导体加工应用而设计的多功能沉积设备。它结合了工业强度物理气相沉积（PVD）室的优点和化学气相沉积（CVD）系统的精确度。典型的应用包括金属、氧化物和电介质的沉积，在半导体晶片上产生电路模式和结构。该SN200的设计考虑了沉积质量。该SN200的两区高速线性传输单元具有较高的吞吐量和可重现的效果。该腔室具有较大的目标面积，能够达到6 cm3/min的沉积速率，适合大面积晶片的高效调理。该室配有粒子传感器，允许对加工环境中的粒子含量进行可靠的监测。反应堆还提供严密的温度和流量控制，使用户能够在晶圆表面上实现均匀的保形层沉积。SN200中的质量流量控制器采用先进的闭环算法，以确保对反应性气体流量和温度的精确控制。这样就可以轻松优化复杂应用程序的过程条件。该SN200具有可编程的气溶胶（外淋浴环），可测量多达8个散射点，以帮助最大限度地减少颗粒污染。双法拉第屏蔽和低惯性磁铁提供有效的火炮屏蔽，防止杂散电子损坏晶圆。双目标查看端口在处理过程中提供了目标及其粒子的出色可见性。该SN200为要求苛刻的沉积过程提供了卓越的性能和可靠性,包括精密门氧化物、光致抗蚀剂和Cu/屏障堆栈沉积难题。该机设计为满足F类（最严格的）洁净室要求，提供了有利于生产先进半导体器件的超清洁环境。该SN200通过其高的沉积速率、精确的温度和流量控制以及有效的屏蔽，提供了成功制造设备所需的可靠和高产的结果。
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