二手 NOVELLUS Sabre XT #9058226 待售
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ID: 9058226
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
ECD Plater, 8"
Model #: C2-Sabre
Integrated frame
With (3) plating modules
Phase 3 anode chamber
8" Clamshell drive unit
196 mm Clamshell cup and cone (Phase 1A ceramic cup)
Pulse plating capability
AE Pulse power supply
(3) Additive dosing systems with nowpak
Bath chemistry control algorithm
Central bath reservoir (150 L)
(3) Post-Electrofill modules
Edge bead removal (EBR)
(5) Chambers anneal capability
50-400 C, H2/Forming gas
BROOKS (4) Axes atmospheric dual-end effector robot
BROOKS Accutran front-end robot
Main power panel
Secondary containment
With splash guards and leak detection
Dual waste stream plumbing
Pentium-based CPU
Graphical user interface (GUI)
SECS/GEM compatibility
Currently crated
1999 vintage.
NOVELLUS Sabre XT是一种化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于半导体制造业。它利用基于盘片的设计与专有的增强CVD （ECVD）工艺相结合,以实现目标薄膜的高均匀性和吞吐量。NOVELLUS SABREXT的优化拼盘设计由两台相对的VTEC热电冷却器构成，允许在狭窄的目标范围内实现最佳性能和温度调节。该拼盘还被一种耐腐蚀材料覆盖，在操作过程中保护其内部部件。Sabre XT的ECVD工艺在100°C至400°C的单室真空环境中运行。在操作过程中，系统将硅烷气体和氨等反应物注入反应堆室内，以及通过旋转火炬的反应性气体前体，精确地分配进入的气体溷合物。这种旋转的火炬允许在腔室内实现高精度的薄膜沉积均匀性，其中目标厚度和均匀性是通过若干光学监测系统收集的。SABREXT还集成了几种先进的过程监测功能，包括一个连续反馈系统，使其能够精确控制反应物气体的流动和溷合。这使NOVELLUS Sabre XT能够自动调整设置，以实现目标薄膜更均匀的沉积，并使其能够监测反应堆环境中的任何潜在污染。NOVELLUS SABREXT的多功能性和可靠性使得它成为需要大批量生产且工艺和薄膜均匀性可靠的半导体制造应用的首要选择。其固态操作确保了现代芯片组和其他半导体产品生产的低维护和经济高效的解决方桉。此外,Sabre XT的耐腐蚀拼盘设计和易集成到各种CVD系统中,使其成为全球领先芯片制造商的理想选择。
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