二手 NOVELLUS Sabre #9105124 待售

NOVELLUS佩刀反应堆是一种化学气相沉积（CVD）反应堆，设计用于半导体制造过程。它是一个专门设计的CVD反应器，能够将厚度低至单埃（0.1 nm）的薄膜沉积到半导体晶片上。反应器用于沉积难以沉积过渡金属、聚合物或其他介电材料等材料。佩刀反应堆由几个组分组成，构成了完整的沉积系统。主要成分包括上腔、工艺室和下腔。该系统是一个垂直、低压的CVD反应堆，采用分批处理的方法，可以沉积多层，所有这些层都受到严格控制，以获得其独特的薄膜厚度所需的精确参数。它能够处理多达8"和12"晶片。上腔配有加热石英敏感器笼，在沉积过程中为晶片提供均匀加热，确保整个过程保持精确的化学计量。加热的感光器笼也被用于蒸发源材料，其汽化和isSource材料汽化促进源材料的升华或热分解，然后沉积在基板上。加热的接收器笼连接到比例积分导数（PID）控制器，这有助于确保加热器温度的最佳均匀性。这取决于具体的沉积工艺要求而增加或减少。该工艺室装有惰性气体溷合物，用于容纳在CVD工艺过程中沉积在晶片上的化学物质。一个喷嘴位于真空室的中心，用于将前体和反应物引入腔内。沉积区与扩散泵相连接，可以精确流动和操纵成功沉积过程所需的气体。下腔用于排出反应产物，也连接到扩散泵上，用于在沉积过程中保持精确的化学计量。它还有助于将任何剩余的反应物从腔室的环境中撤离。NOVELLUS Sabre是一种高精度的CVD反应器，旨在以极薄的薄膜方便材料沉积。它能够产生所需的层，并具有准确和可靠的结果，这使得它成为半导体制造过程中的宝贵工具，从而能够创造出卓越的半导体产品。