二手 OERLIKON LEYBOLD Univex 350 #293822750 待售
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ID: 293822750
优质的: 2009
Physical Vapor Deposition (PVD) Metal evaporator
Chamber
2009 vintage.
OERLIKON LEYBOLD UNIVEX 350是一种通用和先进的真空反应堆设备，设计用于需要精确控制工艺条件的各种研究和工业应用。这种最先进的反应堆为各种薄膜沉积工艺、表面改性和材料表征研究提供了无与伦比的性能、可靠性和灵活性。Univex 350的核心是其精密的真空室，该真空室由高质量的材料构成，旨在保持精密和受控过程所需的超高真空水平。该室设有多个用于引入气体、蒸气和附加配件的端口，允许用户定制系统以满足他们的具体要求。反应堆装有高性能磁控管溅射装置，使薄膜沉积具有非凡的均匀性和纯度。磁控管溅射源能够将各种材料（包括金属、氧化物、氮化物和合金）沉积到各种尺寸和形状的基板上。先进的电源和过程控制软件确保了对薄膜厚度、组成和微观结构的精确控制。除了磁控管溅射外，OERLIKON LEYBOLD UNIVEX 350可以加装电子束蒸发、热蒸发、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）等附加源，扩大可能的沉积技术和材料的范围。这种多功能性使得机器适合沉积复杂的多层结构、功能涂层和针对特定应用量身定制的创新材料。反应堆配备了一套全面的监测和诊断工具，包括对薄膜生长、表面粗糙度和薄膜性能进行实时分析的原位计量系统。集成质谱仪可以精确控制气体成分和沉积过程中的分压，确保可重现的结果和高质量的薄膜生长。Univex 350具有高级自动化和软件控制功能,使用户能够对复杂的沉积序列、配方管理和数据日志进行编程,以实现流程优化和可重复性。直观的用户界面提供了用户友好的体验，让新手和经验丰富的研究人员都能轻松操作该工具。综上所述，OERLIKON LEYBOLD UNIVEX 350是一种前沿真空反应堆资产，对薄膜沉积工艺提供无与伦比的性能、灵活性和控制。凭借其先进的特点、精确的监测能力和沉积技术的多功能性，这座反应堆非常适合研究实验室、大学和寻求突破材料科学和表面工程界限的工业研发设施。
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