二手 OXFORD INSTRUMENTS PlasmaPro 200 #293818863 待售

OXFORD INSTRUMENTS PlasmaPro 200是一种最先进的等离子体蚀刻沉积反应器，设计用于先进的半导体制造和材料研究应用。这款高性能设备采用多功能双源射频等离子体发生器，允许广泛的等离子体工艺，包括蚀刻、沉积和表面处理。PlasmaPro 200是一种可靠且经济高效的解决方桉,适用于需要精确控制等离子体处理参数的研发设施、大学和工业实验室。OXFORD INSTRUMENTS PlasmaPro 200配备了紧凑且用户友好的界面，为操作员提供了易于访问的流程配方、数据记录和系统诊断。反应器室由高质量的材料构成，以确保无污染的加工和最大的晶圆产量。该单元可容纳200毫米以下的各种晶圆尺寸，适合半导体器件制造、微电子、纳米技术等多种应用。PlasmaPro 200的关键特性之一是其双源射频等离子体发生器，它能够独立控制等离子体密度和能量。这允许精确调整等离子体特性，以优化特定材料和装置结构的蚀刻和沉积过程。该机器能够产生低电子温度的高密度等离子体，从而产生均匀和高度各向异性的蚀刻剖面，对底层的损害最小。OXFORD INSTRUMENTS PlasmaPro 200提供多种气体输送选项,包括用于精确控制气体流量和溷合物的质量流量控制器。这使得各种工艺气体如氧气、氟气和氮气能够用于硅、二氧化硅、III-V化合物、金属等不同材料的蚀刻和沉积。该工具还具有内置涡轮泵，用于快速腔室疏散和加工过程中的精确压力控制。PlasmaPro 200的反应堆室设计用于高效的气体分配和均匀的等离子体限制，确保整个晶片表面的处理结果一致。该腔室配备了现场端点检测、光发射光谱、温度控制等一系列可选功能，进一步增强过程控制和监控。该资产与先进的工艺控制软件兼容，实时优化工艺参数，快速开发配方。最后，OXFORD INSTRUMENTS PlasmaPro 200是一种用途广泛、可靠的等离子体加工工具，设计用于半导体技术和材料科学领域的前沿研发。凭借其先进的功能和用户友好的界面,PlasmaPro 200为研究人员和工程师提供了一个强大的平台,用于探索新的等离子体过程和开发具有高精度和重复性的创新设备结构。