二手 PICOSUN P-300BV #293769705 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 293769705
晶圆大小: 6"
优质的: 2021
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor, 6"
Cold source: TMA, H2O
TEMAHF Hot source
Film type: Al2O3, HfO2
2021 vintage.
PICOSUN P-300BV是业界领先的超高空真空(UHV)原子层沉积(ALD)反应堆。P-300BV由世界领先的ALD设备供应商PICOSUN设计制造。设备使用电子束作为薄膜生长的动力源。PICOSUN P-300BV占地面积很小,非常适合在有限的实验室空间内安装。它还具有先进的光学实时监控系统,以便对过程进行精确控制。该装置还提供低工艺温度和优良的薄膜均匀性。P-300BV适用于在超高真空中沉积复合金属氧化物、氮化物、薄膜堆迭的纤薄均匀层。PICOSUN P-300BV是一种高效率的机器,能够使用各种工艺技术,如热和等离子体ALD。该工具包括一种反应性气体注入资产,允许根据气体前体和底物之间的精确化学反应沉积薄膜。P-300BV是为了提供最大的工艺效率和均匀性膜质量。该型号配备了多功能腔室设计和可提供受控剂量前体材料的喷射器设备。该系统还具有一个集成的机器人处理单元,便于精确的样品定位。此外,该机还具有高精度的背面视图原位光学监控工具,可实时测量胶片质量。PICOSUN P-300BV还提供了一整套软件工具,可用于监测和控制温度、压力、流量和薄膜厚度等沉积过程参数。这些软件工具可用于优化工艺参数,以创建统一、高质量的薄膜。最后,P-300BV设计方便维护和操作,具有广泛的安全功能,以确保资产的性能。PICOSUN P-300BV旨在为各种ALD流程提供可靠和可重复的性能。凭借其先进的特性和强大的性能,P-300BV是任何超高真空ALD工艺的绝佳选择。
还没有评论