二手 PICOSUN R-200 #293618159 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 293618159
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor
Vacuum chamber: Stainless steel vessel with KF connection flanges
(2) RC-200 Reaction chambers: 6-Inlets
SH-200 Sample holder
Substrate holder, 8"
PicoPlasma Inductively coupled remote plasma source
Heated sample stage: Up to 750°C
Mesh cradle MC200 for 3D samples
Trough porous sample holder
Controller
Touch panel PC
Deposition: Oxide (SiO2, Al2O3 and TiO2)
Precursor sources:
(3) Picosolutions
(2) Boosted Picohot 200: Heated source up to 200°C
Boosted Picohot 300: Heated source up to 300°C
(2) Picogas connections for thermal ALD
(2) Picogas connections for PEALD with Ar carrier gas
O3 System: PZ-100 Picozone
PF-200 Diffusion enhancer
Chemical precursors:
Type / Element / Chemical
Picosolution / Al / Trimethylaluminium electronic grade
Picohot200 / Ba / Bis (1,2,4-Tritertiarybutylcyclopentadienyl) Barium
Picohot 200 / Ba / Bis (Tri-isopropylbutylcyclopentadienyl) Barium THD
Picohot200 / Ru / ⁿ4-2,3-Dimethylbutadiene ruthenium tricarbonyl
Picohot200 / Si / Bis (Diethylamido) Silane
Picohot300 / Si / Bis (Diethylamido) Silane
Picosolution / Ti / Titanium (IV) Chloride
Picohot 200 / Ti / Titanium isopropoxide
Picohot200 / Ti / Titanium methoxide
Substrate loading:
Picoloader
Slit gate valve, 8"
Load lock
Manipulator
N2 Purge assy for load lock purge
Vacuum pump:
EBARA ESA70WD Dry vacuum pump
Flow rate: 420 m³/h
2-Stages pneumatic valve
Afterburner and mechanical foreline particle traps
Power supply: 400 V, 50 Hz, 3-Phase, 6 kW.
PICOSUN™ PICOSUN R-200是一种先进的ALD（原子层沉积）加工设备,专为工业生产规模的高均匀性和高通量表面涂层应用而设计。该系统旨在满足各种应用的反射面、保形面、光学涂层和薄膜等工业和研究应用的高质量要求。PICOSUN™ PICOSUN R 200反应堆基于模块化体系结构,允许灵活性和可扩展性,允许用户根据其特定的应用需求定制设备。该机器可配备各种标准元件，并重新编程以满足独特的客户要求。R-200反应堆的主要部件包括发电机、反应物、反应室、底物支架和废气。发电机以准确的量向反应室供应反应性气体，确保涂层过程中的高可重复性。真空排气工具在每个循环后都会去除反应副产物，从而实现快速的工艺时间和可靠的结果。R 200反应堆具有紧凑且无维护的设计，易于安装，需要最少的维护。反应室和基体由高质量的不锈钢制成，旨在保证清洁度和耐用性。PICOSUN™ PICOSUN R-200反应堆专为大规模生产而设计，能够涂覆200毫米和1000 x 1500毫米尺寸的基板。它提供高吞吐量功能,最大腔室负载高达80%, ALD循环时间长达59秒。它提供高均匀度的薄膜生长，腔室均匀度小于± 2%，厚度均匀度± 1 nm。PICOSUN R 200反应堆能够处理陶瓷、金属、复合氧化物、氮化物和日耳曼化物等多种薄膜。它为要求很高的涂料行业提供了快速、可靠和可重复的薄膜增长。该资产适合各种研究和工业应用，为所有表面涂层应用提供优越的薄膜质量、可重复性和性能。
还没有评论