二手 PICOSUN R-200 #293628600 待售

PICOSUN R-200
製造商
PICOSUN
模型
R-200
ID: 293628600
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor.
PICOSUN R-200是一种紧凑、高性能的紧凑型大气压力等离子体(APP)反应堆设备,设计用于研究和中小型生产应用。该系统采用最大200W输出的单一大功率射频源、不锈钢腔室、压力腔室和完全可调节的工艺参数。PICOSUN R 200提供卓越的性能和对温度、气流和压力的精确控制。R-200利用获得专利的冷气压等离子体技术,能够在其整个腔室体积内产生高度均匀的等离子体,从而能够沉积和蚀刻晶片和其他具有精确均匀的基板。R 200是生产光电和微电动力(MOEMS)结构,以及各种材料的精确干燥、蚀刻和沉积的理想解决方桉。PICOSUN R-200以其可调的工艺参数,也非常适合聚合物和涂层的精密固化。PICOSUN R 200提供先进的流程监控能力。用户界面(UI)提供流程可视化和对流量、压力和工艺温度的独立控制。此外,R-200还设有一个综合数据分析和报告单元,用户可以实时监视和查看流程,并相应调整流程参数。R 200提供了自动化的晶片装卸机,使用户能够在最小的停机时间内快速准确地装卸晶片。PICOSUN R-200还提供板载和外部晶圆对准能力,以确保每次都有精确的结果。PICOSUN R 200是一种高效可靠的工具,旨在以可承受的成本提供高性能结果。R-200具有卓越的工艺控制和精确的均匀性,是各种材料精密加工的理想选择。
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