二手 PICOSUN R-200 #293831267 待售
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ID: 293831267
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor
(1) PICOSUN R-55 (PEALD)
(1) Ellipsometer ports
(1) Picoplasma (TM)
(1) Picoplasma (TM) 555, Picosoild boost
(1) Picohot (TM) 255
(2) Picosolid (TM) Booster
(6) Picogas (TM) O2+NH3+5 plasma
(2) Picosolution (TM) 555
(1) Picosolution (TM) 655, 72.5mm cont
(1) Picoflow diffusion enhancer
(1) POCA-255 (TM) Handyman LLPump.
PICOSUN R-200是一种可处理的通用批处理原子层沉积（ALD）反应堆。它是一种强大、可重复的工具，能够精确控制薄膜涂层和材料沉积，非常适合用于材料科学或商业制造的研发。PICOSUN R 200由一个不锈钢反应堆室、真空设备以及一整套用于反应性化学预处理的外部控制器和软件组成。整个系统专为紧凑和易于使用而设计。它基于化学气相沉积（CVD）的原理，并通过用户控制、精确地将反应物气体注入装置来实现。R-200的用户可控特性使用户能够快速、轻松地定制沉积参数，确保涂层的精确。它具有连续或半批量的操作模式，使薄膜沉积具有高通量和低污染。工艺压力是可调的，能够生产厚度从几纳米到几百纳米不等的元件。R 200的多功能设计使得它可以用于包括半导体、化学和光电子在内的多种应用。它具有适合低温（低于150 °C）和常温（高于250 °C）过程的特性。高功率加热机保证了快速稳定的温度控制，集成的化学键活化机理产生了性能优良的强保形涂层。PICOSUN R-200的设计是为了安全和方便。它具有两步安全的紧急停止（ESTOP）和低压关闭的安全工具,以及防止在处理之前和处理过程中出现任何超出规格的故障安全阀资产。此外，标准的控制面板提供了易于监测的气体压力和温度。PICOSUN R 200是一种创新和可靠的工具，用于材料科学的研发以及商业制造需求。它对薄膜工艺的精确控制使用户能够生产出所需的具有精确保形涂层的组件。用户控制的特性、安全可靠的操作和多应用程序兼容性使R-200成为精确的材料沉积和薄膜工艺的理想解决方桉。
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