二手 PICOSUN R-200 #9283497 待售

PICOSUN R-200是一个先进、模块化、用户友好的原子层沉积（ALD）反应堆。它是为工业规模、大批量生产各种材料的薄膜而设计的，如纳米结构材料和各种氧化物材料。PICOSUN R 200具有模块化设计，允许使用任意数量的流程模块来创建占地面积小的特定流程模块。R-200还包含加热/冷却设备,温度可高达1000摄氏度。R 200是一种封闭室化学气相沉积（CVD）系统，是为各种材料的薄膜、均匀膜的大面积沉积而研制的。该腔室采用惰性非导电陶瓷材料建造。在内部，气体入口和出口便于与定制的前体兼容。PICOSUN R-200配备了先进的计算机单元，使研究人员能够监测和控制温度、反应时间、气流、压力和气体成分等反应参数。工艺参数可以用+/-0.05度C的精度进行调整，以生产出一致的高质量薄膜。将前体气体以一致的方式引入沉积室，控制沉积速率，确保均匀性。PICOSUN R 200提供了一个高效、可靠和具有成本效益的平台来控制参数并确保精确的沉积过程。在紧急情况下，R-200的安全机器会将压力降低到泄漏安全水平，关闭气体，冲洗腔室空气。R 200专为量产而设计，一次最多可处理60个晶圆。样品沉积的可寻址面积最大为300 mm x 300 mm。单晶片加载机制可确保过程安全,确保整个晶片上的薄膜均匀。PICOSUN R-200为研究和工业需求提供了安全可靠的涂层解决方桉。总体而言，PICOSUN R 200是一种可靠、高效、先进的ALD反应堆工具。R-200以其先进的技术和高精度的工艺控制，非常适合工业规模、大批量生产各种材料的薄膜。