二手 PLASMATHERM LAPECVD LMTM #9382228 待售

ID: 9382228
优质的: 2018
PECVD System Power supply: 208-230 V, 3 Phase, 30 Amps CE Marked 2018 vintage.
PLASMATHERM LAPECVD LMTM是一种先进的低压、低温、微波等离子体增强化学气相沉积(CVD)反应器。LAPECVD LMTM是一种独特的、先进的吸收模式CVD反应器,以其低温和压力性能而着称。反应堆的低温和压力能力是通过使用反应室内产生的微波等离子体进料气体来实现的。这样就可以更好地控制沉积过程。反应堆有一个圆柱形的不锈钢腔室,带有4英寸ID出口热区、2英寸ID冷区以及位于活动臂上的变频微波发生器。装有装有微波窗的石英管和顶载系统。顶部载荷系统由四个半球形板组成,它们可以一起调节以控制沉积过程。等离子体供气通过狭缝阀以受控流量引入反应室。进料气体的流动随后指向扩散器,扩散器又使腔内的等离子体均匀化。扩散器还充当压力调节器,使腔室能够在低压和高压状态下运行。利用直流(DC)偏置电源控制等离子体供气的性能。通过施加负偏置电压,电子会向底物加速,导致反应性增加,沉积速率提高。微波发生器耦合到等离子体维护模块,这有助于将等离子体场维持在所需的操作参数。当适当调整时,等离子体的共振特性可以从启动到整个过程中保持。这样可以确保固体薄膜在基板上的沉积更加均匀。PLASMATHERM LAPECVD LMTM能够在广泛的基板上生产高品质的薄膜涂层。可能应用的例子包括氧化物、氮化物、预防性涂层和合金的沉积。其多功能性和可靠的性能使其成为几乎所有沉积工艺的绝佳选择。
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