二手 PLASMATHERM LAPECVD PDC #9382231 待售

PLASMATHERM LAPECVD PDC是一种先进的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器，旨在满足当代半导体和光电器件制造的苛刻需求。PDC利用激光辅助等离子体（LAPECVD）等先进特性和无阻滞等离子体生成，在高达1000 °C的温度下将高质量、低缺陷的介电、导电、光学和其他材料沉积在各种基板上。先进的LAPECVD设备通过三腔激光系统创造出具有低温电子能量分布的高度均匀、稳定、均匀的等离子体。这些特性使装置能够在沉积速率、均匀度、杂质掺入、气体占空比、沉积温度等参数的精确控制下沉积均匀致密的薄膜层。该机器还可以配置为可容纳直径不超过330毫米的基材尺寸，从而能够高效率地生产商用和研究级材料沉积的中大规模器件制造。无阻滞等离子体生成工具具有广泛的功率处理范围,允许沉积和蚀刻过程之间快速过渡,而无需冷却和重新启动过程。随着大源气体注入孔，PDC在反应均匀性和稳定性方面提供了额外的改进。PDC的高级控制资产包括一个专用的、集成的软件接口，旨在对整个沉积和蚀刻过程提供方便的控制，允许轻松调整参数，包括温度/脉冲功率、脉冲频率、射频功率、特殊气体和基板持有人条件。LAPECVD PDC模型是一种先进高效的PECVD反应器，能够满足半导体和光电器件制造应用中最严格的要求。PDC配备了先进的功能和精确的控制选项,为各种基材和器件尺寸提供了可靠、均匀、一致的介电、导电、光学和其他材料沉积。