二手 PLASSYS MPS 900 #293823685 待售

製造商
PLASSYS
模型
MPS 900
ID: 293823685
PVD Sputtering system (6) Targets (3) DC (3) RF Magnetrons Mass flow controllers Computer control Inter changeable targets Turbo pump: 100 mm Load lock and chamber (6) Magnetrons height adjustable Pneumatic shutter Planetary motion: 3 off 1.5 kW, DC and 3 off 1.0 kW RF Power supplies Gas lines: Ar, O2 and N2.
PLASSYS MPS 900是一种高度先进、用途广泛、精密的多用途反应堆设备,在材料研究、薄膜沉积、表面工程等领域树立了标杆。MPS 900反应堆由领先的真空技术创新解决方桉提供商PLASSYS设计和制造,体现了尖端工程、卓越性能和用户友好操作。PLASSYS MPS 900反应堆的核心是其先进的真空室,它为优质薄膜的沉积和先进材料的生长提供了一个绝对清洁、无污染的环境。腔室配有最先进的泵送和气体处理系统,确保对过程条件的精确控制,如压力、温度和气体成分。MPS 900反应堆的关键特性之一是其模块化设计,它允许易于定制和可扩展性,以满足不同研究和工业应用的具体要求。反应堆可配备多种沉积源,包括磁控管溅射、电子束蒸发、热蒸发,使广泛的薄膜沉积技术得以高精度、重复性地进行。PLASSYS MPS 900反应堆还具有先进的控制系统,提供对所有工艺参数的实时监控。控制单元配有一个方便用户的界面,可以方便地编程复杂的沉积序列和配方,以及用于流程优化和质量控制的数据记录和分析。MPS 900反应堆的另一个关键优势是它与广泛的底物尺寸和材料的兼容性。反应堆可以容纳从用于研究的小块到用于生产规模应用的大型工业晶片等各种底物。此外,反应堆还配备了基板加热机,能够在沉积过程中精确控制基板温度,这对于实现所需的薄膜性能和微观结构至关重要。PLASSYS MPS 900反应堆除了具有多功能性和精确度外,还以可靠性和鲁棒性着称。反应堆采用高质量的材料和部件建造,确保长期稳定和性能,即使在苛刻的运行条件下也是如此。此外,反应堆的设计考虑到了易于维护,方便地接触所有关键部件,以便进行快速故障排除和维修。总体而言,MPS 900反应堆是一种最先进的工具,结合了先进的技术、多功能性、精确度和可靠性,以满足现代材料研究和薄膜沉积应用的苛刻要求。无论是用于基础科学研究、工艺开发,还是工业生产,PLASSYS MPS 900反应堆都为实现最优质的薄膜和先进材料提供了无与伦比的性能和灵活性。
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