二手 ROTH & RAU MAiA #293752398 待售
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ID: 293752398
优质的: 2014
PECVD System
BUSCH Pumps
HAMLET Valves
FESTO Pneumatics
VAT Vacuum valves
SMC Digital flow switches
BECKHOFF PLCs
PHOENIX Power supply units
SICK Sensors
MKS Pressure switches
EATON Contactors, switches and relays
BRONKHORST Mass flow meters
LENZE Electric motors
ELERO Linear actuators
HERAEUS Infrared heaters
MUEGGE Magnetron heads
MUEGGE Microwave power supplies
HAPRO Side channel blowers
(4) COBRA BC 1000 F Pumps
(3) COBRA BC 2000 F Pumps
Coatings and dusts consist of the following substances:
Amorphous silicon nitride, SiNx, coherent layers and dust
Amorphous silicon, dust
Amorphous silicon dioxide, SiOx, continuous layers and dust
Amorphous aluminum oxide, AlOx, continuous layers and dust
2014 vintage.
ROTH&RAU MAiA反应堆是一种尖端的物理气相沉积（PVD）系统，设计用于半导体、光电、光伏等行业的广泛应用。该反应堆具有先进的技术能力和高效的设计，能够精确的膜沉积和优秀的膜质量。MAiA反应堆的核心是其高真空室，为薄膜沉积提供了一个清洁、受控的环境。反应堆设有多个允许多层同时沉积的高精度工艺站，使其适合现代半导体器件和太阳能电池制造所需的复杂多层结构。ROTH&RAU MAiA反应堆的关键特征之一是其用途广泛的基板处理系统，可以容纳各种基板尺寸和类型，包括硅片、玻璃基板和柔性基板。这种多功能性使得反应堆适合广泛的应用，从小规模的研发项目到大批量的生产工艺。MAiA反应器利用一系列PVD技术，包括溅射、蒸发和离子束沉积，沉积金属、氧化物和氮化物等各种材料的薄膜。这些技术可以精确控制薄膜的厚度、组成和均匀性,从而产生具有优异的电学和光学性能的高质量薄膜。此外，反应堆还配备了先进的工艺控制系统，能够对关键工艺参数进行实时监测和调整，如沉积速率、基板温度、气体流量等。这种控制水平确保了薄膜沉积的可重复性和一致性，导致高工艺产量和低缺陷率。此外,ROTH&RAU MAiA反应堆具有高通量设计,能够快速沉积薄膜,非常适合大批量生产环境。反应堆的模块化架构允许简单的定制和可扩展性，使用户能够扩展自己的能力并适应未来的工艺需求。总体而言，MAiA反应堆代表了半导体、光电子和光伏行业薄膜沉积的最先进的解决方桉。凭借其先进的技术能力、通用的设计和高通量的性能，该反应堆非常适合要求薄膜沉积工艺精度、质量和效率的广泛应用。
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