二手 TEL / TOKYO ELECTRON NT333 #293659316 待售

TEL / TOKYO ELECTRON NT333
ID: 293659316
Atomic Layer Deposition (ALD) system.
TEL/TOKYO ELECTRON NT333是一种最先进的外延反应器,设计用于研究应用和先进的设备生产。TEL NT-333反应堆结合了高效设计和小占地面积,允许无缝集成到生产车间。它能够通过手动或机器人装卸处理所有标准晶片尺寸(2"至8")。TOKYO ELECTRON NT 333具有双基板加热器室,可将基板加热至最高1200 °C的温度。光学高温计和温度控制系统确保沉积周期的准确性和可重复性。此外,NT333得益于独特的气体输送设备,该设备能够实现低压动态控制,从而能够精确控制沉积速率和均匀性。反应堆还具有先进的电源模块,其中可以编程电极射频功率来控制温度和层厚度。NT-333配备了先进版本的TEL E-VHS"主动室清洗"系统。这一单元为不断变化的工艺条件提供了一个快速、高效的反应时间,允许更高的吞吐量水平和更少的可重复性问题因腔室污染。TOKYO ELECTRON NT-333还配备了新增加的微粒过滤机,提供稳定的过程,降低粒子水平,提高晶圆产率。最后,TEL NT333还提供了一个全面的环境监测工具,提供各种prameter的实时数据,包括气体压力、温度、射频功率、温度分布和压力分布。对这些数据的分析可以帮助流程工程师轻松识别任何异常,并为精确收集频谱数据提供平台,促进流程优化和提高流程产量。
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