二手 TEL / TOKYO ELECTRON Probus SiC #293813749 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Probus SiC
ID: 293813749
Epitaxial (EPI) reactors.
TEL/TOKYO ELECTRON Probus SiC是一种最先进的先进反应堆,设计用于生产使用碳化硅(SiC)材料的半导体器件。该反应堆利用尖端技术和创新设计,为制造基于SiC的设备提供高性能和高通量的工艺。TEL Probus SiC反应堆的核心是其垂直炉室,专门为SiC材料的生长和加工量身定制。垂直设计允许高效传热和SiC晶体均匀生长,确保整个晶片具有高质量和均匀的材料性能。反应堆还配备了多区加热设备,能够精确控制室内温度梯度,这对于实现所需的晶体特性和控制缺陷密度至关重要。TOKYO ELECTRON Probus SiC反应堆的关键特征之一是其先进的气体输送系统,它可以对SiC材料生长过程中使用的过程气体进行精确可靠的控制。反应堆配有高性能质量流量控制器和压力调节器,确保准确的流量和气体成分,以达到最佳的材料质量和过程稳定性。另外,气体输送装置设计用于快速气体交换和净化,最大限度地减少过程停机时间,提高整机效率。Probus SiC反应堆与一个精密的工艺监控工具集成在一起,提供了温度、气体流速、压力等关键工艺参数的实时反馈。此资产使操作员能够即时微调工艺条件,优化材料质量和设备性能。此外,反应堆配备了先进的自动化能力,允许配方驱动的过程控制和远程监测,精简生产工作流程,减少操作员干预。在晶片处理和加载方面,TEL/TOKYO ELECTRON Probus SiC反应器具有高通量的盒式到盒式加载模式,能够单批处理多个晶片。该设备设计用于高重复性和精确的晶片定位,确保整个晶片的材料性能和设备特性一致。此外,反应堆与各种晶圆尺寸兼容,允许生产的灵活性和未来工艺发展的可扩展性。总体而言,TEL Probus SiC反应堆代表了生产基于SiC的半导体器件的尖端解决方桉。其先进的设计、精确的过程控制、高通量的能力,使其成为寻求在电力电子、射频通信等高性能行业下一代应用实现高品质SiC材料和器件的制造商的理想选择。
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