二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias High-K #9399573 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS High-K Reactor是由TEL Ltd开发的革命性设备。该反应器利用高温工艺减少晶圆生产中存在高k介电氧化膜。这一过程对于制造现代半导体和其他部件至关重要。该反应器的工作原理是发射微波产生的等离子体和热阴极可变偏置。这种形式的冷等离子体分解使用氟基化合物去除晶圆表面存在的绝缘氧化膜，这反过来又有助于制造过程。这种高K反应堆采用单室材料处理系统，在超清洁环境中去除氧化膜，可处理温度高达1000 °C的200毫米晶圆尺寸。与传统的带状和清洁工艺相比，TEL Trias High-K反应堆使用较少的化学物质如含氟蚀刻气体的时间较少，产生较少的环境废物。这是可能的，因为该反应堆提供了自动化配方生成、高效运行和低维护。例如，与典型的双室系统相比，单室反应堆平均消耗的气体少35%。TOKYO ELECTRON TRIAS High-K反应堆高能效，为半导体器件的生产制造提供了显着的效益。该反应堆能够处理生产某些最复杂的半导体元件的各种特殊需要，例如温度大于1000 °C的金属氧化物半导体装置。除此之外，该反应堆还能够实现化学气相集成和化学气相沉积工艺，从而能够更好地控制薄膜的物理和化学性质。总体而言，Trias High-K反应堆是现代半导体生产必不可少的设备。它具有成本效益、节能和环保，同时还提供了制造复杂半导体元件所必需的高温环境和化学工艺。