二手 TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ EX-II Ti/TiN #293666985 待售

TEL Triase+EX-II Ti/TiN是第二代高效、高生产率的CVD反应堆，设计用于生产用于半导体器件制造的优质薄膜层。反应堆配备了获得专利的均匀沉积技术，提供优越的层对层均匀性和工艺控制。其设计针对低成本运行进行了优化，并利用先进的高效气动力废气最大限度地节省能源。反应堆由一个带真空泵的主室和一个控制器单元组成，用于监控和管理各种系统参数。反应堆可用于各类材料，包括单层和多层薄膜，如氮化钛（TiN）和钛（Ti）。统一沉积技术采用独特的入口气体分配系统和先进的沉积参数，改进了均匀性和工艺控制，简化了省钱工艺，降低了超额成本。它也消除了监测晶圆之间高粒子水平的负担，这是由TOKYO ELECTRON获得专利。EX-II Ti/TiN反应器适用于氢化非晶硅薄膜沉积。可以为一系列产品创建均匀的厚度层,包括发光二极管（LED）、太阳能电池和薄膜晶体管（TFT）。该反应器还能够形成纯单晶薄膜，与传统方法相比提供了更高的沉积效率。压力和温度控制反应器的设计提供了更大的处理灵活性。与其他设计相比，它可以在较低的底物温度下实现最大的沉积速率，同时提供卓越的薄膜均匀性和优异的热稳定性。它还利用先进的沉积算法来改善步长覆盖和稳定性，以及增强的电子-回旋加速器TiN电阻沉积。这就提高了蚀刻性能，减少了Ti/TiN丘陵的形成。TEL/TOKYO ELECTRON TRIASE+EX-II Ti/TiN反应堆的设计是为了降低资本成本，提高工艺功率和降低维护成本。利用多种传感器系统对晶片厚度进行现场监测，对基板温度和其它工艺参数进行了良好的控制。坚固的设计允许可靠和可重现的沉积结果。此外,还提供了几种自定义选项来满足各种应用程序的需求。