二手 TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ EX-II Ti/TiN #293802350 待售

TEL Triase+EX-II Ti/TiN是一种由TOKYO ELECTRON设计生产的通用温度控制无核化学气相沉积（CVD）反应器。它是一种高性能反应器，非常适合生产厚或薄、均匀的氮化钛薄膜，同时避免与传统的CVD系统相关的污染。EX-II配备了高精度温度控制器，允许对0°C至1500 °C的薄膜生长温度进行精确控制。无芯设计还允许低调安装和改进气体均匀性，同时提供比其他系统更好的热均匀性。反应堆由1000瓦加热元件提供动力，确保了稳定和一致的加热环境。结合均匀的气体环境，Ti/TiN薄膜的厚度和厚度一致，并提供最佳的电性能。温度控制器还确保了更好的温度稳定性和准确性，从而改善了颗粒的形成和保留，减少了沉积缺陷。EX-II Ti/TiN反应堆的效率也很高，废品为零，不需要任何额外的冷却设备。它还与各种气体兼容，例如氢气、氙气和氮气溷合物。该反应器非常适合多种应用，包括薄膜晶体管制造、电子封装、高功率管理和场效应晶体管。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON Triase+EX-II Ti/TiN是生产均匀氮化钛薄膜的理想CVD反应器，具有出色的温度控制和能量效率。该系统的无核设计非常适合低调安装,并提供一致的薄膜生长温度,精确度无与伦比。反应堆的高效设计也消除了额外冷却设备的需要，使其与各种气体兼容。利用EX-II Ti/TiN，用户可以实现极佳的薄膜性能和较少的沉积缺陷。