二手 TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ EX-II Ti/TiN #9252460 待售

TEL Triase+EX-II Ti/TiN是一种先进的化学气相沉积（CVD）反应器，广泛应用于半导体工业。它设计用于存放具有出色覆盖范围和步进覆盖范围的超小型电子器件制造所必需的超薄膜。Triase+EX-II Ti/TiN反应堆配备了一系列先进的高通量能力和特点。它包括一个用于控制反应物气体温度、密度和能量分布的高功率、高频电子回旋共振（ECR）等离子体源，允许精确控制材料组成、膜厚度、速率、形态、粒度、表面粗糙度等沉积参数。此外，反应堆设计有宽阔的工艺窗口，允许多层薄膜沉积。Triase+EX-II Ti/TiN反应堆还具有高效加热区技术，允许过程温度高达960°C。这种增强的热控制确保了准确和精确的沉积性能，同时保持了较低的热预算限制。该设备还具有易于使用的控制软件和腔室自动化，可简化沉积过程，最大限度地减少腔室部件的压力，提高系统寿命。该反应堆以运行可靠、薄膜质量优良而闻名。Ti/TiN薄膜的沉积即使超小尺寸也是可能的，允许用户实现顶尖设备的制造。这种反应堆装置还具有极好的阶梯覆盖率，对于生产高性能的互连和接触至关重要。TOKYO ELECTRON TRIASE+EX-II Ti/TiN是一种生产优越的Ti/TiN薄膜的可靠、高质量的沉积反应器机器。其先进的特性和精确的薄膜沉积能力使其成为最苛刻的半导体应用的理想选择。