二手 ULVAC CC-200Lt #293759023 待售

ULVAC CC-200Lt是一种先进的化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于先进的薄膜沉积和材料加工应用。由全球真空技术领导者ULVAC开发,CC-200Lt提供了无与伦比的性能、可靠性和灵活性,可满足广泛的研究和工业需求。ULVAC CC-200Lt的核心是由优质不锈钢建造的高性能反应器室。该腔室设计用于保持精密薄膜沉积过程所必需的超高真空条件。反应堆室容量为200升，为容纳各种基材尺寸和形状提供了充足的空间，为各种应用提供了多功能性。CC-200Lt具有先进的气体输送系统，可以精确控制多种前体气体的流量。这种精确的控制对于实现均匀的薄膜生长和高质量的材料沉积至关重要。反应堆配有先进的质量流量控制器和压力调节系统，以确保准确和可重现的工艺条件。ULVAC CC-200Lt的主要特点之一是具有高温能力，能够在高达1000 °C的高温下进行沉积。这种能力对于沉积各种材料至关重要，包括氧化物、氮化物、碳化物和金属，具有出色的薄膜质量和附着力。高温操作也有利于晶膜和复杂多层结构的生长。CC-200Lt采用了最先进的等离子体源，以加强沉积过程并实现等离子体辅助CVD技术。等离子体源产生高反应性的环境，促进化学反应并增强膜的性质，例如密度、粘附力和均匀性。反应器的等离子体辅助沉积能力使其成为制造具有定制性能的先进功能涂层和薄膜的理想选择。反应堆装有用于等离子体激发的高功率射频发生器，能够精确控制等离子体参数，优化薄膜生长动力学。射频发生器提供了调整等离子体特性（如密度、能量和离子通量）的灵活性，以根据特定的应用要求量身定制膜的微观结构和性能。ULVAC CC-200Lt采用用户友好界面,具有直观的软件控制功能,便于操作和监控过程参数。反应堆与先进的工艺自动化和配方管理系统兼容，允许高效的工艺开发和优化。反应堆的全面数据记录和报告能力使得能够对沉积过程进行深入分析和控制，以实现高质量的薄膜。综上所述,CC-200Lt是一个最先进的CVD反应器,为先进的薄膜沉积应用提供卓越的性能、可靠性和多功能性。ULVAC CC-200Lt凭借其高温运行、精确的气体输送系统、等离子体辅助沉积能力和人性化界面，是需要卓越薄膜质量和定制的前沿研究和工业应用的理想平台。