二手 ULVAC CPD-1210 #9055162 待售

ULVAC CPD-1210是一种化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于将薄膜沉积到半导体基板上。CPD-1210有一个垂直安装的反应堆主体，里面装有石英管、内部雾化器和加热元件。石英管包含一个气体入口、气体出口，并衬有水套以维持管的适当温度。内部雾化器提供气体分子在半导体底物上的均匀分布。ULVAC CPD-1210是一个两步过程，第一步是对基板进行预涂，第二步涉及实际沉积。在预涂层步骤中，将预分解气体引入石英管，加热至适合处理基材的温度。预分解气体有助于分解反应物分子，使它们更均匀地沉积在底物上。然后将基板暴露于沉积气体中，沉积气体通常是金属形成气体和含有沉积薄膜的材料的气体的组合。沉积气体的温度高于预涂层步骤，并带有内部雾化器，提供了薄膜在基板上的均匀沉积。CPD-1210还具有其他功能，包括射频发生器和独立的烘焙室，可在同一反应堆室中同时使用预涂和沉积气体。ULVAC CPD-1210具有单一的源、低压室，使各种材料如金属、金属氧化物、电介质和半导体能够沉积。腔室能够达到1200 °C的最高温度，提供了控制和提高反应速率和薄膜质量的灵活性。总体而言，CPD-1210是薄膜沉积的理想CVD反应器，为不同材料的沉积提供了均匀性、高温控制和灵活性。ULVAC CPD-1210是在短时间内生产高质量薄膜的有效且通用的工具。