二手 ULVAC DWNT #9055163 待售

ULVAC DWNT是一种广泛应用于半导体器件生产的高真空扩散型热CVD反应器。反应堆由一个石英炉、两个独立的沉积室和一个扩散室组成，所有这些都在一个系统中连接在一起。基板可以很容易地从石英炉的外部改变，而炉的温度可以变化和微调。DWNT的扩散室包含三个区域；底部区域用于引入源气体，并与排气阀相连。顶部区域是晶片加载的位置,在晶片下方安装了高温加热器。最后，中间区域容纳了插入反应气体的淋浴头，并配有高速鼓风机，为有效溷合气体制造湍流。反应气体从ULVAC DWNT的淋浴头注入，并在到达晶片前通过扩散室扩散。反应气体的扩散增强了薄膜的均匀性，确保薄膜正确地附着在底物上。反应室可以处理各种过程气体，包括SiH4、PH3和GeH4。DWNT反应堆可以保持2X10-4至8x10-4 Pa的压力，它还提供了整个腔室的高水平温度均匀性，在基板的大区域上达到± 1-2°C的精度。腔室的温度可以在350°C到900°C之间，这取决于基板。ULVAC DWNT反应器不仅在温度均匀性方面，而且在控制沉积速率和均匀性方面都非常精确。它能够产生高达7000 nm/hr的沉积速率，精度± 2 nm。这使得它成为生产先进半导体器件的绝佳选择。总体而言，DWNT是一种有效、可靠的扩散型CVD反应器，能够在各种工艺气体环境下生产出具有高度均匀性的高质量薄膜。高精度和可靠性使其成为任何生产设施的绝佳选择。