二手 ULVAC EBS-10A #9055245 待售

ULVAC EBS-10A是一种设计用于高精度基板蚀刻和薄膜沉积的低能等离子体反应器。它利用电离气体（等离子体）在底物上产生强大的化学反应。这允许形成细线宽和高可重复过程的错综复杂的电子结构。EBS-10A由高频电源、控制器、腔室和工艺气源组成。该室是一个不锈钢，真空密封环境，能够处理大气压力下降到0.1Torr。它配有直径6.5英寸的大视口，用于监控基板表面的工艺。反应堆还有一个射频天线，用来将射频功率传递到腔室。该电源能够向腔室提供0.2-800W的射频功率，从而实现各种过程，如蚀刻、溅射沉积、热蒸发和电子束沉积。再者，控制器允许对包括腔室压力、蚀刻时间和射频功率在内的等离子体参数和过程变量进行非常精确的控制。ULVAC EBS-10A还配备了一个气源单元，能够以高度精确的比例和流量供应工艺和载气。该工艺气体是由一种惰性气体组成的，如氙气，用于蚀刻等化学反应。载气通常是氧气（O2）或氮气（N2）溷合物，用于控制等离子体密度和表面活化。总之，EBS-10A是一种用途广泛的高精度反应器，设计用于广泛的基材加工，包括蚀刻、溅射沉积和薄膜沉积。其特点包括可调节压力室、强大的射频源、精确的气源单元以及用于精确过程控制的控制器。等离子体反应器对非常精细的特性尺寸和高重复性提供了极好的控制，使其成为底物加工的理想选择。