二手 ULVAC Entron-EX2 W300 #9314077 待售

ULVAC Entron-EX2 W300是设计用于半导体器件制造的化学气相沉积（CVD）反应器。反应堆配备了高效、恒温、低NOx双区燃烧器，能够精确控制工艺条件。Entron-EX2 W300具有多种功能,包括内部和外部气体溷合、集成歧管、长寿命石墨敏感器和多功能控制器。这些特性为用户提供了极好的稳定性和重复性，使高质量的薄膜沉积以及核壳和多层沉积过程成为可能。ULVAC Entron-EX2 W300使用户可以轻松地创建各种所需的沉积配方。Entron-EX2 W300利用一个"间歇式"腔室，一次最多可容纳四个基板。内室尺寸为915mm（宽）x 545mm（深）x 520mm高度（包括法兰）,并具有915mm x 545mm的倾斜感应板,用于精确的薄膜沉积。磁感器板设计成在整个基板上均匀分布热量，从而产生均匀的薄膜沉积，而不会引起定向效应。空腔还有一个低矮的石英圆顶和一个中央安装的气体入口和出口，减少了加工过程中晶圆周围的散射量。此外，ULVAC Entron-EX2 W300反应堆有可能配置各种能够有效优化沉积过程的解决方桉。例如,Entron-EX2 W300配备了ULVAC涂层-监视器-COG系统,该系统可以精确测量薄膜和厚膜,并帮助用户在其基板上实现一致且可重复的沉积。此外，ULVAC Entron-EX2 W300可以配备一个冷却尾部快门，帮助用户实现更低的工作温度和更高的沉积产量。总体而言，Entron-EX2 W300是一个高性能的CVD反应堆，可以帮助用户进行一系列半导体器件制造过程。通过采用ULVAC高级功能以及用户友好的安全措施，用户可以有效地最大限度地提高流程效率并确保高质量的结果。