二手 ULVAC Entron-EX2 W300 #9314154 待售

ULVAC Entron-EX2 W300是为半导体生产而设计的等离子体增强热CVD反应器。它能够在现代基板上沉积高质量的薄膜，包括硅、氧化物、玻璃和其他先进的结晶材料。Entron-EX2 W300是ULVAC（超低电压声学CVD）的最新型号,具有创新和强大的W型 300-MHz等离子体源。这使设备能够产生超高沉积速率和高温等离子体CVD工艺。ULVAC Entron-EX2 W300的总体设计非常紧凑,适合实验室应用和半导体生产运行。它的尺寸仅为480 （W） x 1075 （D） x 905 （H） mm,能够将材料沉积在150 mm大小的基板上。该装置具有内置的过程控制界面，用于控制流速、气体溷合物、压力和温度。Entron-EX2 W300利用高功率射频放电和先进的电弧控制系统来提供均匀、高速率的等离子体生产。这保证了均匀厚度的材料膜沉积在不同的基板上，在半导体器件和半导体晶片的生产中产生优异的效果。ULVAC Entron-EX2 W300还具有内置微控制器,用于监视和控制温度、压力和流量等参数。Entron-EX2 W300拥有多种其他功能，非常适合半导体器件和半导体晶圆制造。它还采用了陶瓷绝缘设计，将操作过程中的热量损失降至最低，有助于降低能源成本。此外,ULVAC还采用了一系列热电冷却器,实现了一种新型的冷却系统,以确保设备在长期生产过程中保持冷却和高效。总体而言，ULVAC Entron-EX2 W300是一种非常先进和可靠的热CVD反应器，能够在一系列不同的底物上沉积高质量的薄膜。其创新和强大的W型 300-MHz等离子体源实现了很高的沉积速率和高温等离子体CVD工艺，ULVAC先进的冷却系统确保了设备温度的持续维持以提高能效。其紧凑的设计和多种专业特性，使其成为各种半导体器件和半导体晶圆制造应用的理想选择。