二手 ULVAC Mini-Lab #9313805 待售

ULVAC Mini-Lab
製造商
ULVAC
模型
Mini-Lab
ID: 9313805
优质的: 2005
Vapor deposition system 2005 vintage.
ULVAC Mini-Lab Reactor是一种效率高、成本效益高的半导体蚀刻沉积设备,可用于创建高性能电路,精确度出众。该系统是一个小巧轻便的单元,非常适合实验室和生产过程。Mini-Lab Reactor具有低能高速多脉冲源、可处理多种反应性气体的精密沉积/蚀刻模块以及高精度自动镜头扫描仪。与传统技术相比,低能多脉冲源提供了更均匀的蚀刻和沉积。这个节能单位还使用非危险化学品,既安全又经济。自动镜头扫描仪配备了一台放大机,可以用高达10倍的变焦来检查试样表面,用单一的图像捕捉动作来捕捉宏观和微观图像。自动镜头扫描仪的高精度还可以让用户快速检测任何缺陷,并以极高的精度观察胶片沉积。ULVAC Mini-Lab Reactor的多功能性使得它可以用于广泛的过程。这包括蚀刻和沉积速率优化,过程控制,在某些情况下,甚至薄膜应力松弛。此外,该工具还提供了卓越的工艺重复性和高度自动化的工作流程,使其成为各种半导体制造应用程序的理想选择。微型实验室反应堆的先进设计使其能够在各种蚀刻和沉积过程中提供卓越的性能。它的集成设计还最大限度地减少了停机时间并简化了维护。它还设计为能效高,可为用户节省大量功耗。总体而言,ULVAC Mini-Lab Reactor对于那些希望获得强大、高效、经济高效的蚀刻和沉积资产并提供卓越精度和可重复性的用户来说,是一个绝佳的选择。其紧凑的设计和创新的特点使其成为实验室和生产过程的理想选择。
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