二手 UNAXIS / OERLIKON / ESEC KAI-1 1200 Gen 5 #9195317 待售
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ID: 9195317
优质的: 2008
PECVD System
Reactor (Industrial glass size):
Version of commercial KAI 1200 machines inside
OERLIKON PV module turn-key production lines
Amorphous and microcrystalline thin silicon film deposition
1.1 m x 1.3 m glass substrates of 2-4 mm thickness
(2) Reactors: aSi, µcSi layer deposition
Load lock
Glass loading table (Extractable to deliver glass into load lock)
Process unit with (2) PECVD reactors
Equipped with ADVANCED ENERGY Cesar 4 kW 40.68 MHz RF Generator
(15) Mass flow controllers
IDEM MFCs
Max temp: 200°C
EBARA Dry pumps
Front loader system
Films deposited:
aSi/µcSi tandem thin film silicon solar cells
With (Containing intrinsic aSi and µcSi films and their carbon-containing /p- and n-doped declinations)
Self cleaning process with NF3 (No residues in both reactors)
Gas supply and pump connected
Spare parts included
2008 vintage.
UNAXIS/OERLIKON/ESEC KAI-1 1200 Gen 5反应堆是一种高性能的先进技术蚀刻工具，可提高各种生产应用的性能。该工具是一件式设计，具有强大的可变功率、先进的均匀性和通量输送控制功能。它的高分辨率射频发生器能够在广泛的频率下工作，允许用户为各种蚀刻应用程序编程过程条件。它还具有集成线圈和负载调节功能,以提供额外的控制。该反应堆是为生产各种电子装置应用而设计和设计的，包括晶体管栅极蚀刻、鳍形蚀刻和CPW蚀刻。它还具有复杂的负载和线圈调整功能,可优化工艺性能。此外,该工具允许用户直接从CD、内存棒或通过设备的触摸屏显示器输入配方。ESEC KAI-1 1200 Gen 5反应堆配备了先进的真空管理能力。它具有封闭的圆柱螺旋几何形状，为蚀刻过程提供稳定的气氛。这允许用户在不同的过程级别继续蚀刻一致的结果，即使施加压力。该工具的集成液体喷射系统和射频发生器对蚀刻工艺性能提供了更大的控制。用户能够调整蚀刻化学以及通量水平，以更大的均匀性实现更高的产量。这允许更快、更高效的蚀刻生产过程。此外，该工具采用独特的水冷系统，为用户提供更高的效率。最后，UNAXIS KAI-1 1200 Gen 5反应堆的设计考虑了安全性和功率效率。它配备了自动关闭系统，以及防静电机身。此外,该工具的状态报告功能使用户能够监视和评估设备的整体性能和功耗。
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