二手 VDL R2R #9292764 待售

製造商
VDL
模型
R2R
ID: 9292764
Atomic Layer Deposition (ALD) system R2R Reactor operation Deposition at atmospheric pressure up to 150°C (6) Deposition cycles per drum rotation 0.7 nm Deposited per drum-cycle Web speed: Up to 10 m/min R2R Function: R2R ALD (In the middle) Two coating / Printing stations Two UV curing units Nominal substrate width: 514 nm Gas cabinet Deposition of zinc oxide and zinc sulfide Prepared for aluminum oxide Nitrogen purification Drum allows ALD depositions up to 150°C.
VDL R2R代表真空沉积液体受体对受体,是一种工业反应器,主要用于反应性薄膜沉积和表面工程过程。它涉及使用真空沉积和表面反应的组合来在基板上产生薄膜。R2R有两个组件:真空沉积单元和基板组件。真空沉积装置使用各种进料流,这些进料流是根据所需的反应机理选择的。这典型地包括液体来源如有机金属、无机盐和气态化学物质如四氯化钛,以及固体前体如金属氧化物和有机单体。然后将这种蒸气或液体引导到基材上,基材暴露于沉积活动中。基板组件通常由一个带有旋转基板支架的沉积室组成。支架的设计是随着沉积活动的进行而旋转基板。这种旋转有助于在基板上产生均匀的层。同时采用加热元件维持温度,防止沉积不均匀。在VDL R2R过程中,基板暴露于反应性薄膜沉积和表面工程操作中。根据所使用的进料流,底物上会发生多种化学反应。例如,如果饲料流中含有有机化合物,就会发生氧化反应,生成薄膜。同样,还原、聚合、电镀等反应也可用于修饰底物表面。R2R过程的结果是一个薄膜是均匀的和量身定制的特定应用。可以通过调整沉积参数来控制薄膜的厚度。此外,该工艺适用于各种基材类型,如金属、陶瓷和聚合物。总体而言,VDL R2R是一种有效的反应薄膜沉积和表面工程工艺方法。其生产均匀量身定制的薄膜的能力使其成为工业应用的理想选择。
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