二手 VEECO CVC #9307852 待售
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ID: 9307852
PVD System
MX700 TM with loadlock
Aligner
MAG 7.1 Robot
Etch module
DC / RF Deposition module.
VEECO CVC(化学气相沉积)反应器技术是一种高精度沉积方法,使纳米级到微量层的材料沉积到大型基板上。这种设备可以根据需要制造各种元素的纳米级层,包括金属、氧化物和聚合物。它是一个通用系统,允许单个模块充当晶圆厂管线的沉积、化学计量或蚀刻单元,这些管线使用先进的半导体-从数字到MEM和III-V设备。CVC反应堆机器由一个封闭的腔室、一个加热的基板和一对连接到气体管线的操作员控制阀组成。循环开始时,密封腔室,保持预选压力。净化气体用于保持清洁和防止气体污染。当它被启动时,一种载气,如氦气、氙气或氮气,被送入腔室。适当的反应物气体以精确的数量和预定的温度添加到载气中,确保均匀的薄膜沉积在基板上。反应堆工具在整个过程中被自动监控和控制。VEECO CVC的沉积过程为2至5小时,具体取决于所需的薄膜厚度和类型。在沉积过程中,像二氧化硅、氮化硅等合金这样的材料被添加到基板上,每一层都经过仔细、精确的控制。沉积层的质量越高,缺陷就越少,这使得亚微米器件得以产生。CVC反应堆技术具有许多优点,特别是在沉积精度和均匀性方面。它还能够生产具有精确控制的高质量层。它小巧的尺寸使它能够集成到一系列生产工具的足迹中。此外,其精确的气体控制能够实现各种工艺,包括氮化、氧化、蚀刻和沉积,污染最小,因此非常适合各种应用。VEECO CVC工艺提高了沉积物的质量,因为其均匀的组成和较少的公差接近问题使其适合一系列纳米应用。最后,其生产的成本效益使其成为晶圆厂生产线的理想选择。使用CVC反应器可以改善沉积过程,并导致电性能更好的更均匀的层,可以显着减少沉积所需的时间。
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