二手 VEECO / DEKTAK K 465 I #9410042 待售
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ID: 9410042
优质的: 2010
MOCVD System
(2) EBARA ESA25-D Dry pumps
(2) LYTRON LCS7289G1 Chillers
Hydride lines: NH3, SiH4
MKS MFC Type
Alkyl lines:
Lines / SCCM
TMIn 1 / 1000 sccm
TMIn 2 / 200 sccm
TMGa 1 / 1000 sccm
TMGa 2 / 200 sccm+1000 sccm
TEGa / 1000 sccm
TMAl / 500 sccm+1000 sccm
Cp2Mg / 1000 sccm+2600 sccm
DEZn / 500 sccm+1000 sccm
RAUDA Baths:
RE235
(5) RE215
Power supply: 380 VAC, 3-Phase
2010 vintage.
VEECO/DEKTAK K 465 I是专门为底物的完整处理而设计的反应堆设备。它对沉积参数进行了极好的控制，并在大面积上实现了有效的阶梯覆盖和均匀的薄膜沉积。它在48 mm X 48 mm工作区工作时提供卓越的基板均匀性和卓越的操控性能。该反应器非常适合以纳米颗粒规模生长单层、多层和合金薄膜。该系统旨在满足包括半导体、研究和一般实验室应用在内的广泛行业的需求。可用于物理气相沉积（PVD）、低温氧化物沉积（LTO）和化学气相沉积（CVD）等过程。它还具有模拟各种氧化物和氮化物剖面的能力。反应堆包括基板和样品架、石英视口、空间分配口、快门、真空装置、排气阀、增长率监测仪、样品架电源和冷却风扇。所有这些组成部分共同努力以取得预期的结果。此外，该机采用高效机械快门设计，可以降低大气对刀具的影响，从而提高精度和结果的均匀性。该资产基于"轻型室"和"强型室"的两级方法。"光室"是最浅的腔室，具有较高的腔室压力，允许均匀受控的批量加工，生长速率低。"强室"增加了对沉积过程的控制水平，并允许层的均匀性。通过采用多种增长速度和不同的腔室配置，该模型能够在步进覆盖、均匀性和薄膜质量方面取得优异的效果。VEECO K 465 I反应堆还设计有样品持有者电源，可以准确控制温度和生长时间。该设备包括一个多区域控制接口，允许精确处理沉积参数。此外,该系统还设计了一个板载诊断单元,可方便地对机器及其组件进行故障诊断。总体而言，DEKTAK K465I是一种先进和先进的反应堆工具，旨在满足各种工业和应用的需求。它对基材加工提供了良好的控制,并确保了卓越的均匀性和性能.该资产可提供具有阶梯覆盖和均匀薄膜沉积的高质量结果，并能满足最严格的工业要求。
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