二手 VEECO / EMCORE E300 #9283630 待售
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VEECO/EMCORE E300是一种研究水平、低压、感应耦合的等离子体加工反应器，设计用于蚀刻硅和其他IV类材料。反应堆利用13.56 MHz发生器，除了低压（1 mTorr至100 mTorr）感应耦合等离子体（ICP）进行蚀刻和沉积过程外，还产生电子回旋共振（ECR）。该反应器适用于快速热退火（RTA）的蚀刻、沉积和蚀刻/沉积，还提供低压EC和快速热氧化（RTO）工艺。VEECO E300有一个最多可容纳9种气体的燃气箱，其中包括两个ICP喷射器和一个遥控气体控制单元。气体箱提供对等离子体离子和自由基密度的精确控制，这是成功蚀刻硅和其他IV类材料所必需的，不同的材料需要不同的等离子体密度。可以对EMCORE E300中先进的射频发生器进行微调，在不同材料上达到最佳工艺效果。2kW电源提供了1 mtor至100 mtor的工艺室压力，而一种新型的氮射频偏置控制功能使用户能够调谐工艺室中等离子体的密度，也增强了工艺的均匀性。发电机也针对大功率沉积过程进行了优化。除了射频发生器外，E300还提供涡轮分子泵（TMP）形式的压力控制，可用于维持所需的加工压力。双泵的设计可以更稳定的运行，更快的泵送时间和更好的压力控制。VEECO/EMCORE E300还具有独特的分裂室设计，将主等离子体反应室和沉积室与冷却室分开。这允许快速热退火（RTA）和其他高温过程,而无需双冷却气室。反应堆还包括集成的紫外线监测系统，以确保蚀刻过程处于最佳状态。该系统包括一个先进的光学发射光谱室，用于监测蚀刻深度和均匀性。总体而言，VEECO E300提供了一个成本效益高的研究级别系统，旨在处理各种不同应用的材料，从蚀刻、沉积、用RTA蚀刻/沉积到低压EC和RTO工艺。其卓越的射频发生器和分室设计提供了卓越的蚀刻均匀性，提高了器件产量和工艺再现性。
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