二手 VEECO / EMCORE E400 #9047867 待售
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ID: 9047867
优质的: 2000
MOCVD System
Hydride source line:
(2) AsH3
(2) PH3
Dopant A
Dopant C
Includes:
Ancillary equipment
E400 As/P
GaAs 12x4" (43x2" or 19x3" or 5x6")
Load-lock
(7) MO Source lines
(2) Dopant MO source lines
Sources: DEZn, TESb, TMIn-1, TMIn-2 TMA1, TMGa-1 TMGa-2, IBuGa
(2) Epison III for TMIn
Manuals
2000 vintage.
VEECO/EMCORE E400是一种外延金属-有机化学气相沉积(MOCVD)反应器,设计用于加工化合物半导体材料,如砷化氙、磷化铵、砷化铝。VEECO E400是一种多区域、水平管、流过设备,在物理占用空间小得多的情况下,比单区域系统提供更高的精度和可靠性。反应堆的内部热区前面有两个预热区。使用集成的远程控制系统,热区可以单独加热到100至1000°C的温度。热区由上下冷却腔隔开,设计用于在过程运行期间冷却热区。EMCORE E400还具有多点控制功能,可在所有用户设置和监视的条件下精确控制温度。该反应器还提供高效和高度可重复的过程控制,具有极好的可靠性和沉积膜的可重复性。E400采用独特的双入口设计,允许独立控制载流子和反应物气体,以及独立控制气体压力和流量。这确保了整个反应堆的均匀气体分布,从而提高了薄膜质量和均匀性。VEECO/EMCORE E400还具有集成的高频等离子体发生器,可提高沉积速率、薄膜均匀性和改进的薄膜性能。这个单元还有助于减少反应堆的污垢,在线圈和基板上保持一致的功率。反应堆还加入了额外的等离子体预电离特性,降低了沉积速率,并从过程中去除杂质。该工具还具有可选的狭缝喷嘴喷射器组件,以提高工艺均匀性。这种固定喷嘴喷射器组件的创新组合有助于降低氮气消耗,保持稳态工艺稳定性,最大限度地提高工艺重复性。总体而言,VEECO E400反应堆为用户提供了改进和可重复的设备属性、过程统一性以及微调的控制能力。机器在整个过程中保持一致的气体压力,确保均匀和可重复的沉积质量。等离子体发生器、可选喷射器和独立控制的热区的加入为用户提供了对MOCVD过程的更高精度和控制,确保了每次运行的最佳设备性能。
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