二手 VEECO / EMCORE E400 #9265828 待售

製造商
VEECO / EMCORE
模型
E400
ID: 9265828
Systems Process: GaAs.
VEECO/EMCORE E400是一种基于交替脉冲激光沉积(APLD)反应器的电子束(电子束)汽化。这种先进的沉积设备可实现薄膜和异构的精确和可重复沉积,用于各种应用,包括自旋电子和光电器件。该系统为薄膜沉积提供了一个高速、坚固、可靠的平台,对沉积速率和底物温度等因素具有高度的控制。该装置采用电子束源对目标材料进行汽化,采用脉冲激光源控制沉积速率。VEECO E400利用独特的Alt过程控制机(APCS)来精确控制压力、真空、温度、沉积速率和其他相关参数。它具有先进的热电级控制器和自适应增长率控制(AGRC),对增长率提供高度控制。APCS利用前馈机制不断调整生长和压力条件,以符合期望的增长率。电子束源集成到腔室中,并具有三轴机械手,允许精确的运动控制适合不同尺寸和形状的基板。该工具的11轴机械手具有对沉积参数的实时控制功能,并提供反馈信息,使薄膜沉积能够快速、简单、可靠。APLD保证了厚层向亚纳米厚度的可靠和可重复沉积。该装置还允许沉积多种材料,包括金属、氧化物、氮化物、聚合物和其他有机材料。EMCORE E400配备了扫描电子显微镜(SEM)和飞行时间二次离子质谱(Tof- SIMS)等各种原位监测系统。这确保了沉积材料的深入表征,并允许优化沉积参数。APLD和SEM的结合,使得不同材料和高度层的高精度和可重复堆迭,以及沉积材料的微观结构的研究。总之,E400是一种通用的沉积工具,能够控制和详细地沉积薄膜和异质结构在各种底物上。其先进的过程控制资产,结合其通用的机械手和原位表征系统,为电子束沉积提供了可靠的平台。该模型是许多应用的理想选择,可实现自旋电子和光电器件的高速、精确和可重复的薄膜沉积。
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