二手 VEECO / EMCORE E450 #9363532 待售
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ID: 9363532
晶圆大小: 2"
Systems, 2"
Wafer capacity: Up to (48) wafers
Group III MO sources:
(2) TMGa
(2) TMIn
(2) TMAl
Group V hydride sources:
(2) AsH3
PH3
Dopants MO:
CP2Mg
CBr4
Dopants hydride: H2/SiH4
(2) NESLAB Baths
(7) Lorex piezocons
2-Channels for TMI expendable to 4 (For 2 additional TMG)
EBARA A70W Pump
Exhaust system:
(2) Particle filters
Housing
Phosphorus trap
P-Trap automatic regeneration system loadlock: Loadlock chamber
Glove box
Moisture monitor
Wafer carrier transfer robotic system heater
(3) Heater elements:
Inner
Middle
Outer graphite heater temperature control
Temperature monitor 3-point T/C
YOKOGAWA Controller
3-Point SEKIDENKO pyrometer
Gas monitoring:
Gas leak monitor
Toxic gas
H2 Gas monitor system
Epi Windows 2000.
VEECO/EMCORE E450外延反应器是一种高度先进的化学气相沉积（CVD）设备，旨在以最高效率优化高性能半导体器件。该系统具有独特的高温高压工艺室，能够在最短的时间内生产出质量最高的半导体薄膜。VEECO E450反应堆设计采用单升程铁基炉结构，以达到最大效率和可靠性。先进的双汽化器控制装置能够独立和同时进行汽化器操作，从而对工艺气体进行精确的温度调节。EMCORE E 450的增强型控制机在控制过程气体流量和预编程配方以实现最佳外延增长方面提供了充分的灵活性。作为先进真空控制工具的一部分，采用惰性气体净化氮气流维持超清洁工艺环境，确保了良好的装置产量。集成水回路炉提供了整个室内最佳的温度均匀性，有助于减少污染和来自工艺环境的颗粒入侵。最先进的反应堆支持直径可达6英寸的基材尺寸，并使用标准的6英寸晶圆载体资产，便于样品装载。E450独特的"头入式"机械设计还提供了快速方便的样品装卸，最大限度地提高了薄膜沉积的均匀性。细氧化物蚀刻工艺采用独特、不均匀的轮廓设计，在不影响薄膜均匀性或造成表面损伤的情况下提高蚀刻速率。VEECO/EMCORE E450被认为是生产高质量和坚固的半导体器件的重要工具。先进的高温工艺控制模式、惰性气体净化控制、超静音真空设备，保证了超清洁环境的最大产量和装置稳定性。此外，内置炉在整个过程温度范围内提供最高温度和均匀性控制。所有这些特点结合在一起，使VEECO E450外延反应堆成为先进设备制造的无与伦比的平台。
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