二手 VEECO / EMCORE K465i #293587351 待售

VEECO/EMCORE K465i是半导体制造过程中使用的高温单晶圆化学气相沉积（CVD）反应器。它能够沉积健康、均匀的氧化亚硝化硅（SiON）和氮化硅（SiN）厚度高达100纳米的阶梯覆盖层。VEECO K465i的可重复沉积性能可确保任何应用的高导热率、光学或机械性能。反应堆可利用NH3和SiH4等反应性气体进行沉积。它专为高通量而设计，确保整个晶片上的薄膜成分均匀，具有快速、可重复的温度斜坡速率。总吞吐量通常介于持续温度高达1000 °C的50W-150W之间。EMCORE K465i规定了精确的温度斜坡,用于沉积控制.通过控制加热器元件的精确测序、室内压力和反应性气体的流速来完成。它使用两种不同的加工气源。一种是干氮干气源，用于通过低温泵对过程进行冷却，以快速冷却气体，保持室内温度稳定。第二种提供反应性气体，包括H2、N2和NH3以及催化剂气体，如SiH4。通过控制两种气体的比例，可以得到精确的材料沉积速率和均匀性。K465i包括几个关键的标准特性,如陶瓷基板桨、测量瞬时基板温度的高温计、机械卡盘振动以及用于端点识别的环境传感器。所有组件均设计为易于集成到制造设施中。VEECO/EMCORE K465i提供了沉积过程的精确度和均匀性。它提供高吞吐量、精确准确的温度斜坡速率和出色的阶梯覆盖.VEECO K465i具有易于集成、陶瓷基板桨、高温计、机械卡盘振动和环境传感器等特点,可在半导体制造过程中高效可靠地沉积氮化硅和氧化硅薄膜。