二手 VEECO / EMCORE TurboDisc 300 II GaN #9245320 待售
网址复制成功！
单击可缩放
VEECO/EMCORE TurboDisc 300 II GaN反应器是一种专业化的、最先进的生产工具，设计用于氮化移动物（GaN）和基于III组氮化物的外延层的生长。VEECO TurboDisc 300 II GaN反应堆在其工艺室内采用先进的高效超旋风喷嘴，以尽可能高的吞吐量实现可靠和经济的增长。其可调压力控制器提供了对腔内压力的精确控制，使得厚膜生长速度比前几代GaN反应堆快得多，非常适合大批量生产。此外，EMCORE TurboDisc 300 II GaN反应堆是专为在恶劣的工业条件下可靠运行而设计的，具有易于维护的全金属结构设计。TurboDisc 300 II GaN Reactor还具有先进的高温范围、光学隔离的热解石墨敏感器,可保持晶圆表面的温度均匀性。其温度性能与旋风波纹管扩散系统相结合，导致了特殊的粒子控制，从而减少了缺陷的产生。此外,TurboDisc 300 II采用前置开口设计,允许在工艺室和冷却板之间轻松快速过渡。这打开了先进的工艺可能性，如增加掺杂剂浓度，减少沿生长表面的热扩散，改善等离子体均匀性和更好地控制表面化学。VEECO/EMCORE TurboDisc 300 II GaN反应堆也得益于先进的高光谱技术，为各种生长层的可视化提供了最高分辨率。这项技术提供了生长过程中GaN层的实时视图,从而能够高度精确地控制层的均匀性和厚度。最后，由于VEECO TurboDisc 300 II GaN反应堆系统具有强大的工艺前和工艺后表征能力，它还提供了前所未有的工艺诊断能力，使操作员能够在整个生产过程中进一步了解各种化学和结构参数。总体而言，EMCORE TurboDisc 300 II GaN反应堆是一种强大可靠的生产工具，旨在优化GaN层的生长效率和均匀性，使基于GaN的材料工业化生产成为可能。
还没有评论