二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375085 待售
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VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN反应堆是一种最先进的高性能生产反应堆，能够生产金属氮化物薄膜。该K465i建立在VEECO专利的TurboDisc技术基础上，是一种单晶圆垂直反应室沉积系统，旨在生产与其他沉积方法无法达到的均匀性和精确度的薄膜。利用其垂直的上下轴，K465i可以同时处理多个晶片，而其先进的沉积控制和腔室设计在生产环境中提供了更好的性能。TurboDisc K465i使用两级高密度电子回旋共振（ECR）等离子体源以及一种新型的RF偏置系统来提高沉积速率。高密度ECR确保了更高水平的电离和高效的自由基生产，从而实现了更好的表面覆盖。射频偏置系统进一步增加等离子体中存在的高能物质的电离水平。这些综合特征使K465i的沉积速率高达250 Å/min。该K465i是沉积GaN、氧化氙（Ga2O3）和氮掺杂的氧化氙（GaN： O）薄膜的理想选择。其底腔压力为2 × 10-9 Torr,先进的工艺步骤可达到1 × 10-8 Torr左右的较低压力。锁载室最多可处理6个″晶片，并可提供高达350mm的基板处理。该反应堆还提供了一系列全面的控制选项，例如用于基板照明的四个石英灯、用于几何效应补偿的移位器板以及用于反应性物种控制的气体入口。这确保了实时过程监测和准确的沉积周期。此外，其用户友好的触摸屏界面允许简单的反应工程。TurboDisc K465i是生产优质金属氮化物薄膜的技术先进、可靠的选择。凭借独特的特点和创新的设计，它是LED、传感器、内存、功率半导体等应用的理想选择。
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