二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375122 待售

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN是专门为GaN材料应用设计的下一代沉积反应器。它是一个高性能、超高功率的平台,可为这些应用提供最佳的材料增长。它具有先进的沉积技术和优化的反应堆平台，提供了业界领先的沉积速率和无与伦比的薄膜均匀性和过程控制。该K465i采用了最先进的电感耦合等离子体技术，这是优化先进材料加工的关键工具。这类等离子体源效率很高，非常适合材料沉积过程，如用于GaN应用的过程。它提供高密度等离子体，电离速度比常规源快，电离稳定性提高，使得GaN薄膜能够精确沉积。该K465i还具有等离子体源的变频控制功能，允许用户精确控制分子在等离子体中被激发和电离的能量。这种增强的控制允许对沉积过程进行精确的控制，从而实现令人难以置信的均匀和高度对齐的分子结构。此外,K465i中的高功率电源可实现高沉积速率,这对于优化生产规模应用至关重要。该K465i配备了热壁双喷头配置，允许两种等离子体源配置和独立控制的沉积速率。这样就能够以较高的沉积速率对薄膜及其层相关参数进行独立的同时沉积。此外，双淋浴头设计可用于工程晶体结构，大大增强了层栈结构和层厚度的特征控制。该K465i设计为即使在具有挑战性的条件下也能高效。它能够在高温下运行，减少生产周期时间，降低运营成本。它拥有先进的冷却系统，不需要真空泵，进一步提高了效率。总体而言，VEECO TurboDisc K465i GaN是专门为GaN应用设计的下一代沉积反应堆，提供卓越的性能和过程控制。采用电感耦合等离子体、变频控制、热壁双淋浴台配置等先进技术，最大限度地提高了沉积工艺效率，实现了极高的沉积速率，薄膜质量异常均匀。这使得它成为GaN材料加工的理想平台。