二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375124 待售

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN反应堆是一种用途广泛的下一代气相外延反应堆,旨在提供卓越的工艺重复性、沉积速率和均匀性。它非常适合研发和生产应用，为生长GaN、AlGaN和InGaN等III类氮化物材料薄膜的工艺提供卓越性能。K465i GaN反应堆是专门为HRM（高速率分子束外延）工艺而设计的，能够实现极高的沉积速率增长，使其既适合研究又适合商业生产水平。其特殊的设计与传统的MBE（分子束外延）技术相比有几个优点，如改进的基板加热、更广泛的晶圆尺寸相容性、更高的沉积吞吐量、改进的晶体完美度和工艺重复性。K465i GaN反应堆由几个组分组成，包括氧化镁源供应、积液池、冷冻吞噬源、加热底物支架和两个涡轮分子泵。氧化镁源是反应堆中的一个关键成分，因为它负责提供前体材料，这些材料将在基板上转化成薄膜。一个积液细胞保存着源物质，而冷冻吞噬源则产生精确的原子通量，以便在基质上形成薄膜。加热的基板支架允许薄膜在一定温度下沉积，而涡轮分子泵则产生真空，以减少沉积室中可能存在的潜在污染。K465i的GaN反应堆对温度、生长速率和底物反应性提供了无与伦比的控制。这使得即使结构复杂，也能生产出极为均匀的薄膜。此外，与传统的MBE机相比，它可以实现极高的增长率，从而大大减少沉积所需的时间。总体而言，VEECO TurboDisc K465i GaN Reactor是研究和生产氮化物薄膜的有力工具。它提供了无与伦比的均匀性和对底片界面的控制，使科学家和工程师能够精确地利用其结果。它具有出色的可重复性和性能，是实现设备性能卓越、沉积时间少的理想工具。