二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375130 待售

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN Reactor是一种专门为氮化零沉积（GaN）而设计的高性能沉积设备。该K465i能够以10至150纳米/分钟的速率沉积GaN。它是一种生产级沉积系统，具有低变化、高均匀性和突出的沉积过程重复性。这个先进的反应堆具有集成、闭环、气体输送、离子辅助、温度控制和原位过程监测。该K465i由陶瓷氮化铝陶瓷基板和氧化的衬里构成，坚固可靠，适用于工业应用。基板安装在加热阶段，加热至1000 °C，以利于GaN沉积。离子辅助装置用于将沉积温度降低到低于400°C，并可用于建立保形沉积速率剖面。集成闭环气体输送单元可以在沉积过程中连续指挥，以便制造出均匀的GaN膜。该K465i采用先进的沉积技术，如原子层沉积（ALD）、分子层沉积（MLD）、等离子体增强原子层沉积（PEALD）等，沉积了超薄膜和优质GaN层。这些技术可用于构建结构，如多茎LED器件和大功率加热元件。此外，采用PEALD模式，可以达到高达300 nm/minute的更高沉积速率。该K465i是生产薄质高质量GaN层的理想沉积机。先进的工艺监测能力允许精确控制沉积参数，集成闭环气体输送工具保证了一致的GaN沉积速率和均匀性。此外，先进的反应堆体系结构确保了产品的寿命可靠性和结果的可重复性。