二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375133 待售

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN Reactor是一种先进的等离子体处理系统,设计用于半导体器件制造的薄膜沉积。它是一个高通量、高通量率的系统，由线性电动机、多室源快门配置以及最先进的气流控制器和温度控制器组成。该反应堆采用专有工艺，结合独特的淋浴头设计和优化的等离子体化学，提供非常均匀和保形的薄膜，具有优越的边缘轮廓和出色的底物温度控制。该K465i利用具有完全集成匹配网络的高功率GaN射频（RF）源,可以在25 MHz的恒定频率或高达60 MHz的可变频率下运行。利用其强大的射频发生器，K465i可以产生用于各种沉积过程的等离子体，包括氧化物、氮化物和金属，具有低温和高通量。该系统利用创新的等离子体源，包括专有的TurboDisc技术，以确保在大型基板上的高均匀性和保形性。集成匹配网络提供了优化的功率传递，保证了沉积结果的均匀性和可重复性。K465i的均匀性、可重复性和温度性能使其能够获得与使用更昂贵和复杂的技术所获得的工艺结果相当的工艺结果。此外,VEECO K465i的设计尽可能具有可扩展性和灵活性。它可用于中小型批处理项目的单工具配置,以及用于大型试点运行的多工具配置。它的模块化构造和灵活的设计使它能够轻松地与其他设备如机器人处理程序、计量或定制夹具集成，以便快速发展。此外，使用多室和定制配方使K465i能够同时为多个应用制作不同类型的薄膜，为用户提供快速高效满足其生产需求的能力。综上所述，VEECO TurboDisc K465i GaN Reactor是一种先进的等离子体反应器，它将创新的等离子体源技术与无与伦比的均匀性、可重复性和温度控制相结合，用于半导体器件制造的薄膜沉积。它具有可扩展和灵活的体系结构,使客户能够快速轻松地将其集成到生产线中,而其强大的射频发生器则使其能够生产各种质量优越的沉积材料和工艺。