二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9397191 待售

VEECO TurboDisc K465i氮化氙（GaN）反应器是一种先进的半导体器件，用于复杂半导体材料的生长。该K465i是一个单一的晶圆反应器，工程与集成TurboDisc原子层沉积（ALD）和分子束外延（MBE）系统。K465i GaN反应堆的TurboDisc设计确保了统一、无工具、低成本的运行。通过将均匀的涡轮盘状晶片处理系统集成到其反应堆中，K465i可以达到比传统反应堆更高的精度水平。此外，涡轮盘式设计最大限度地减少了环境空气造成的污染，减少了温度分布不均造成的热应力，并允许提高工艺的重复性和更高的吞吐量。K465i GaN反应堆配备了高稳定性、高效的Tri-Quadra线圈技术，能够以最小的功耗产生持续的连续沉积。在整个沉积过程中，线圈保持稳定和可靠，允许可重复的过程性能和高产率。该反应器还具有真拖把模式扩散覆盖和对流传质的特点，以便于大面积覆盖和使用低成本材料改善薄膜生长。此外，K465i反应堆设计有一个自动化控制系统（ACS），能够在350-1200°C的支撑温度范围内监测和控制生长状况。ACS配备了多种集成控制器,包括：加热、安全和冷却。利用这一高级功能,K465i可以在各种温度、压力和增长率下生长材料,从而实现灵活可靠的过程。K465i的GaN反应堆已被证明能产生稳定、均匀、高质量的GaN薄膜。利用其TurboDisc技术，反应堆能够创造出具有改进的电气特性、优越的光学传输和增强的器件性能的GaN薄膜。因此，K465i是在商业市场上制造高效半导体器件的理想选择。