二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i #9223149 待售

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i是一种高功率、RF驱动的化学气相沉积（CVD）反应器。它是一种半导体制造装置，设计用于生长薄膜，如SiO2，SiN，以及最近的石墨烯。该K465i采用专利的"电梯"设计，允许半导体材料逐层生长。K465i的物理构造是一个"电梯"组件，它允许将晶片放置在腔内，整个腔内被升高和降低，从而沉积层。TurboDisc利用电子回旋共振（ECR）在150°C至650°C的温度下产生自由基和活性物质。它为沉积过程带来了相当大的热力预算，并为沉积反应堆中可以处理和控制的物质清单增加了一系列新的化学物质。为了利用这一温度范围，ECR使用了两级磁控管。Dual Magnetron级允许在晶圆表面产生等离子体，并独立控制主环和偏置环。它还具有X-Y转向能力，简化了基板载荷。K465i的标准安全功能符合半导体安全法规,12X大于行业标准。腔室安全壳、减压阀、差压真空计、排气管线和电动手动关闭速率均符合半导体标准。该K465i采用FEST，这是一个过程控制系统，旨在积累和模块化配方，监测过程参数，并导致高过程重复性。FEST将相关食谱分类到文件夹中,以便于检索。对气流、压力、真空、晶圆温度、基板偏置等相关工艺数据进行了自动测量和记录，可方便地与工艺优化和改进结果相关联。从制造的角度来看，该K465i在半导体行业已经证明了自己的操作简便性、高吞吐量和良好的工艺控制。其"电梯"设计减少了基板装载时间，有助于实现高产。双磁控管特性增加了等离子体强度，同时降低了电子能量，提供了优异的等离子体轮廓均匀性。集成的FEST过程控制包提供了对过程配方的全面分析和完善的优化。所有这些特性及其出色的安全特性使K465i成为半导体制造应用的理想工具。