二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K475i As/P #9246072 待售

VEECO TurboDisc K475i As/P是一种大功率、直流（DC）供电的阴极电弧等离子体反应器，设计用于高速率沉积或蚀刻各种材料。该反应堆利用气体注入系统，创造出一种高能等离子体，材料通过该等离子体与环境剂发生反应。该反应器采用直接负输入（DNI）电源，可实现稳定、精确的沉积和蚀刻。TurboDisc K475i As/P由一个腔室、电子束枪、电子收集器（作为电极）和阳极组成。与电子束枪耦合的EMCORE直流电源产生一个小的、强烈的电子流，它撞击工件（基板）的表面。这种能量随后被转移到电弧和气体从气体注入系统注入到腔室中。气体的特点是基本上被电离；电离气体形成等离子体，从而加速沉积速率并降低工艺温度。TurboDisc K475i具有比传统等离子体技术更高的稳定沉积或蚀刻速率。其高功率密度参数支持复杂的多层沉积，并在高密度蚀刻中取得成功，且热或应变效应最小。电源还包括专有功能,如高级电源管理逻辑（APML）,用于控制每个循环所需的精确电源。这也使得与各种前体源以及底物要求完全兼容。VEECO/EMCORE TurboDisc K475i As/P适用于广泛的精密涂层和表面整理应用，包括半导体和MEMS制造、太阳能电池沉积和显示器。反应堆由于其灵活性和易用性，非常适合研发或生产规模任务。此外,系统还具有广泛的操作参数、对各种精确功率级别的适应性,以及高级智能、控制和安全功能,可实现无故障操作。因此，该反应堆提供了最高的质量和一致性，允许更高的吞吐量，同时提供优越的成本每晶圆。