二手 VEECO K475 #9364542 待售

VEECO K475
製造商
VEECO
模型
K475
ID: 9364542
晶圆大小: 2"-6"
MOCVD Reactor, 2"-6".
VEECO/DEKTAK K 475反应堆是用于先进材料研究的精密、高性能反应堆。它是为了快速表征薄膜的电性能而设计的,来自硅、砷化氙、GaN等多种材料。这个反应堆提供了令人难以置信的强大,易于使用的功能,允许可靠的,可重复的结果。VEECO K 475反应堆是一种直流电(DC)溅射反应堆,非常适合金属、氧化物、氮化物等薄膜以及其他介电材料的原子沉积。其独特的连续沉积和蚀刻的直流双磁控管源增强了其性能。它还具有一个敏感、快速的电气测量子系统,能够进行极其精确的薄片和接触电阻测量。用户还可以从各种基板支架中进行选择,范围从标准晶片到部分安装的基板。反应堆具有先进、自动化的运动控制功能,可实现最佳的精度和可重复性.它可以将晶片精确定位在3 μ m以内,实现晶片表面对5Ω/sq的细粒控制。反应堆还配有高性能沉积控制系统,通过自动控制沉积速率、均匀性和工艺精度,确保性能完美。反应器的溅射占空比可根据最佳沉积速率和最佳沉积速率与蚀刻速率之间的平衡进行调整。DEKTAK K475反应堆的主要目的是为先进材料研究制造高纯度薄膜。它为开发越来越高效和可靠的先进材料铺平了道路,为研究人员和行业从业人员提供了评估其材料的有力工具。该反应堆为研究和制造用于光电子、电信和数据存储的新型高精度多层薄膜提供了理想的平台。
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