二手 VEECO TurboDisc E475 LDM #9401869 待售
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ID: 9401869
优质的: 2010
MOCVD System
High-brightness LEDs: Red, orange and yellow
Multi-junction III-V concentrator solar cells
Operation: 200 300 Epitaxy
Control PC
Electrical and control part
Gas panel part
Reactor part
EBARA ESA70WD
Dry pump
Includes:
As/P Growth chamber
Growth chamber exhaust system
Load lock and platter transfer
Load lock exhaust system
Glove box
Water cooling assembly
Dual Phosphorous trap assembly
Hydrogen detector
System electronics and control modules 380 V
EpiView Local control interface
(7) Liquid refrigerator baths
(9) SS Bubbler legs, 1/8"
Gas panel
In-Situ monitoring system:
(3) REALTEMP 200 Monitoring systems
IDRT/RT Local control assembly
Step up platform
Custom gas panel controller bubbler:
DETe
DMZn
(2) TMIn
(2) TMGa
TMAI
CBr4
TBA
Disilane
Dilution network source manifold (Single bubbler)
Hydride:
Dopant1: Dislane
Dual input Hydride with single standard and single dilution network manifold
Dopant2: Dopant single input Hydride
2010 vintage.
VEECO TurboDisc E475低密度金属化（LDM）反应器是为生产厚膜、高性能电子器件而设计的工具。它用于使用低压等离子体活化化学气相沉积（CVD）工艺将金属膜沉积到基板上。该设备利用独特的热旋转圆盘在大面积上形成均匀的薄膜沉积。该反应堆经过专门设计，具有较高的通量和可靠性，是半导体器件批量生产的理想选择。该系统由一个工艺室、上盘和下盘板组件、底架以及对准和控制系统组成。E475反应堆工艺室具有短气线配置，允许快速、精确的气体输送和快速启动。该室配有晶圆输送和支撑，以及气体分配歧管。圆盘采用高性能铝合金制成，提供出色的热力和机械稳定性。圆盘可以以高达3500 rpm的转速旋转，最高温度约为400°C。该单元设计用于金属膜的沉积，包括铜和铝金属化、屏障层和粘合层。具有良好的均匀性和高沉积率的高性能薄膜沉积能力。该机提供了对薄膜厚度和附着力的精确控制，提供了高度的工艺和材料一致性。该E475还包括允许用户精确调整沉积参数的过程监测和控制系统。用户界面利用直观的图形运算符界面来简化流程的设置、启动和监控。该工具包括一个安全登录和一个审计跟踪，这使得它更容易跟踪流程数据和结果。反应堆还设计满足严格的安全要求，降低事故风险，提高工作场所的安全性。E475 LDM反应堆是制造高性能、可靠电子设备的理想工具。凭借其先进的设计和可靠的性能，它被设计用于较低的整体维护要求，使其成为小规模生产和大规模量产的有效工具。
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