二手 VEECO TurboDisc K465 GaN #9410043 待售

VEECO TurboDisc K465氮化氙（GAN）反应器是一种等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，旨在为基于GaN的半导体器件的生产提供高效和严格的沉积工艺。它提供了过程灵活性和可重复性,以确保高产量和优异的设备性能。该系统非常适合包括晶体管、肖特基二极管、HEMT、高功率器件和激光二极管在内的应用。K465反应堆采用圆形结构，形成水平或垂直圆盘，具体取决于最终用户的需求。这种独特的设计使先进的均匀性结构能够保证卓越的均匀性和沉积率。气体分配单元采用单个气体喷射器，多个扩散喷射口分布在工艺室的周长周围。这种设计最大限度地提高了气体在整个腔室中分布的均匀性。另外，TurboDisc K465反应堆配备了多级、低压）线性快速泵/粗加工泵机，用于高效、精确的压力控制。歧管由不锈钢制成，使用寿命更长。TurboDisc K465等离子体反应堆的特点是等离子体范围广，过程温度高达1000 °C。能精确沉积AIN、AlGaN、AlN、GaN、InGaN等复合半导体，沉积速率高达45 nm/min，均匀性极佳。其专利底物旋转技术和广泛的功率范围允许优化沉积工艺条件，以产生高质量和均匀性的外延层。TurboDisc K465反应堆工具具有高度直观和用户友好的图形用户界面，可提供视觉反馈，并允许轻松快速地调整工艺参数。此接口还允许进行有用的数据采集和过程开发活动。VEECO TurboDisc K465 GaN反应堆是制造先进的基于GaN的半导体器件的可靠、高性能沉积资产。其独特的特性、过程灵活性和可重复性，以及图形用户界面，使其成为行业、研究和开发需求的理想选择。