二手 HITACHI Focused Ion Beam (FIB) #293754408 待售

HITACHI Focused Ion Beam (FIB)
ID: 293754408
晶圆大小: 8"
优质的: 2017
8" 2017 vintage.
HITACHI聚焦离子束(FIB)设备是一种先进的工具,用于显微镜领域,特别是材料科学和纳米技术领域。结合尖端技术,HITACHI FIB包括一个装有聚焦离子束(FIB)柱的扫描电子显微镜(SEM)。这种集成允许在纳米级进行高分辨率成像、精确铣削和沉积。该系统的多功能性支持广泛的应用,包括样品准备、设备修改、故障分析和电路编辑。在HITACHI FIB单元的中心是FIB柱,它发射一束聚焦的​​的移离子。这些离子具有高能,可以精确指向样品表面的特定区域。聚焦离子束可用于各种用途,如通过溅射研磨材料,通过离子束诱导沉积沉积材料,或通过光刻工艺制造精细结构。此外,FIB可用于截面样品观察内部结构,或用于电路编辑,方法是在特定位置精确移除或添加材料。作为FIB功能的补充,HITACHI机器的SEM方面提供了高分辨率成像功能。SEM利用电子束扫描样品表面,生成放大倍数在数万到数十万倍之间的详细图像。这样就可以在微观和纳米级可视化样品特征,从而提供对材料的形态、结构和组成的宝贵见解。FIB和SEM组件在HITACHI工具中的协同作用为各领域的研究人员和科学家提供了无与伦比的能力。FIB可用于精确定位通过SEM成像确定的特定目标区域,促进目标材料的去除或修改。这种精度水平对于纳米结构的制造、微型设备的原型设计、材料故障机理的研究以及纳米级半导体器件的分析等应用至关重要。除了成像和铣削能力外,HITACHI FIB资产还支持原位实验和分析。研究人员可以在离子束的影响下对样品反应进行实时观测,或者研究发生在样品表面的动态过程。这种能力使得HITACHI FIB成为研究随着时间或特定环境条件而演变的现象的宝贵工具。此外,HITACHI FIB模型还配备了先进的自动化和控制功能,从而提高了实验的生产率和可重复性。用户可以为重复性任务创建自动工作流,从而确保样本准备和分析的一致性。设备的软件界面可实现直观操作,并与数据分析和可视化工具无缝集成,从而简化了总体实验工作流程。总之,HITACHI聚焦离子束(FIB)系统是一种将聚焦离子束的功率与高分辨率扫描电子显微镜相结合的最先进的仪器。它在成像、铣削和材料操作方面的先进功能使其成为一种通用工具,可用于材料科学、纳米技术、半导体研究及其他领域的广泛应用。HITACHI FIB凭借其精确、灵活和现场能力,使研究人员能够突破科学探究和技术创新的界限。
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