二手 HITACHI RS-4000 #9036353 待售
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ID: 9036353
Scanning electron microscope (SEM), 8"-12"
Includes:
Process evaluation: Litho, etch, CMP
Beam tilt: 10°
Laser darkfield microscope, EDX 15 kV
SEM:
Ip = <10pA ... 200pA
Darkfield OM:
Laser scatterlight (B/W)
Field of view (ca.): 620 um (220x)
Illumination level: Manually adjustable
For particles >1 um strong interference patterns appear
CCD Bad pixel calibration possible: No
Brightfield OM:
Field of view (ca.): 620 um (220x)
B/W only
Cassette interface:
(2) 12" Load-ports
8" Load ports: No
Robot handler (single end effector)
Status lamp (R/Y/G/B)
GEM/SECs
Sub-Fab (supporting) equipment:
Equipment rack (power box)
(2) BOC EDWARDS EPX-180LE Dry pumps
(1) Cryo tiger cryo compressor
EDX (Option), 15 kV:
Automatic defect re-detection
Automatic defect classification
Vacc: 500 V - 5 kV (auto.), resp. 15 kV (man.)
SEM Pixels: 512 or 1024
SEM Magnification minimum: 1000x (140 µm FOV)
SEM Magnification maximum: 200000x (0,7 µm FOV)
Detector SEM:
Left topography (BSE)
Right topography (BSE)
SE
VC
Image display SEM: Live and average mode
OM: DF + BF
OM Magnification:
220x (ca. 620µm)
440x (by digital zoom)
Tilt: 10° (beam tilt)
Stage rotation: No
Stage accuracy: +/- 1µm
Image resolution SEM: 3.0 nm (800 eV)
Auto EDX: Yes
Defect sensitivity
MTBF: 1000 Hrs
Downtime per month: 6 Hrs
Particle contamination
Front side: Maximum 7 adders >0.16µm
Back side:
Maximum: 3500 adders > 0.2µm
Maximum: 100 adders > 5.0 µm (incl. clusters)
Throughput:
10 Wafer / h (50 Defects)
900 Defects+ADC/h (1wafer)
Manual loading without defect file: Yes
FIB Vacc: No FIB
Milling accuracy
Milling frame size
Measurement requirements:
AST in current software: No
Lowest SEM magnification: 1000x
Maximum voltage for automatic ADR and EDS 5kV
15kV for manual EDS
Minimum voltage 500V
Image mixing: Ok
Manual loading without defect file: Ok
NORAN System: (6) EDS will be offered
Stage resolution: Ok
Beam tilt: 10°
Image resolution at 800eV: 3.0nm
230 VAC (6kVA), Single phase, 50 Hz
CE Marked
Currently stored in clean room
2005 vintage.
HITACHI RS-4000是一种扫描电子显微镜（SEM），使用聚焦电子束来创建图像，用于可视化和分析多种材料。采用先进的能量过滤技术，对样品的地形和化学成分进行了最佳对比。此外，它使用扫描束能量色散X射线（SBEDX）来测量样品的元素组成。显微镜具有多光谱成像模式，能够在不同波长下同时获取四个不同的图像，从而能够完全可视化样品的物理、化学和结构特性。HITACHI RS 4000提供超高分辨率成像,具有广泛的物镜放大倍率-高达500倍。集成的自动柱头功能可以方便地调整电子束,同时无需手动调整。它还有一个内置的遥控设备，可以对系统进行远程监控和操作。除了高分辨率成像外,RS-4000还提供多种分析功能。它可用于测量大面积的表面地形、层厚度和3D样本参数。它还具有表征标本涂层的能力，如薄膜、玻璃和金属，使用X射线荧光、能量色散X射线光谱（EDS）和电子反向散射衍射（EBSD）。RS 4000用途广泛,可用于多种应用,包括材料表征、冶金研究、微电子学、医学研究和法医调查。它具有几个先进的特点，包括用于高分辨率二次电子（SE）成像的探测器、准反向散射（QB）成像，以及一个超高分辨率、大视场反向散射电子（BE）探测器，这使得能够在一次扫描中获取地形和化学信息。HITACHI RS-4000专为易于使用而设计,其开放式体系结构允许快速集成到自动化流程中。该单元用户友好,具有用于设置实验、控制扫描运行和查看数据的直观软件。此外,该机器还提供各种支持服务,从维护和培训到软件开发。用户友好的设计和高级功能使HITACHI RS 4000成为需要具有可靠性和灵活性的SEM功能的实验室和研究中心的理想选择。
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